[发明专利]高功率密度芯片的金属热接合有效

专利信息
申请号: 201110421727.3 申请日: 2011-12-16
公开(公告)号: CN102543763A 公开(公告)日: 2012-07-04
发明(设计)人: S·安基莱蒂;V·盖克廷;J·A·琼斯;M·B·斯特恩 申请(专利权)人: 甲骨文美国公司
主分类号: H01L21/48 分类号: H01L21/48
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 高青
地址: 美国加*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 功率密度 芯片 金属 接合
【说明书】:

技术领域

这里公开的实施例一般涉及半导体器件制造中的方法。更具体地,这里公开的实施例涉及使用金属热界面材料(thermal interfacematerial,TIM)将排热器件无焊剂地附接到芯片上的方法。

背景技术

半导体封装的装配在热管理中扮演重要角色。传统的半导体封装包括盖、一个或多个管芯、管芯互连、衬底、衬底互连以及盖附接热界面材料(TIM)。

管芯通过管芯附接工艺被放置到衬底上。典型地,管芯附接工艺包含通过回流工艺经由管芯互连将倒装型管芯附接到衬底上。底层填料被施加到管芯互连、管芯和衬底。盖附接TIM被施加到管芯的底部(与管芯互连相反的一侧)。盖被放置在衬底上,典型地经由盖附接TIM与管芯接触。半导体封装在固化温度被固化。盖附接TIM的粘合剂层厚度(bond line thickness,BLT)由管芯、衬底和盖的共面性、盖到衬底的施加、盖附接TIM的特性、以及装配的半导体封装的固化工艺来确定。

从微处理器、专用集成电路(ASIC)、集成电路(IC)或其它印刷电路板(PCB)组件排热的传统技术依赖于使用放置在生热器件和散热器件之间的热沉附接TIM。典型地,单个散热器件,即热沉跨越生热器件,即半导体封装上的若干个部件。热沉附接TIM的BLT确定热路径性能和散热器件的制冷效率。

发明内容

通常,在一个方面,本发明涉及一种装配半导体封装的方法,包括通过反向溅射来清洁芯片的表面和排热器件的表面。该方法还包括在目标接合区域上,顺序地涂敷芯片的表面和排热器件的表面以粘合剂层、阻挡层和保护层。芯片和排热器件被分别放入第一和第二承载夹具中并预加热到目标温度。然后,金属热界面材料预制件被放到芯片表面上。在芯片表面上机械地碾压金属热界面材料预制件,并且第一和第二承载夹具被附接到一起,使得芯片表面上的金属热界面材料层与排热器件的被涂敷表面接合。该方法还包括在回流炉中加热被接合的承载夹具。

本发明的其它方面和优点根据下面的描述和后附权利要求书将是明显的。

附图说明

图1示出了根据这里公开的一个或多个实施例的方法的流程图。

图2示出了根据这里公开的一个或多个实施例的承载夹具的示意图。

图3示出了根据这里公开的一个或多个实施例的封装。

图4是根据这里公开的一个或多个实施例的温度加热分布的图。

具体实施方式

现在将参照附图详细描述本公开的实施例。各图中的相似元件被相似标记表示以便一致。此外,在后面的本发明实施例的详细描述中,大量特殊细节被阐明以便提供对请求保护的主题的更全面理解。然而,对于本领域技术人员明显的是,这里公开的实施例能在没有这些特殊细节的情况下被实现。在其它实例中,公知的特征没有被详细描述以避免不必要地使描述复杂。

在一个方面,这里公开的实施例一般涉及半导体封装方法。具体地,这里公开的实施例一般涉及采用无焊剂工艺和金属TIM来热耦接管芯/芯片和排热器件/盖的方法。

参照图1,示出了按照一个或多个实施例的半导体封装方法。在ST100,清洁芯片的表面、排热器件的表面和金属TIM预制件。具体地,在一个或多个实施例中,可使用丙酮,接着使用异丙醇来清洁芯片的表面、排热器件的表面和金属TIM预制件。此外,可使用盐酸在室温下轻度蚀刻芯片的表面、排热器件的表面和金属TIM预制件,接着用脱离子水进行漂洗。在用脱离子水进行漂洗之后,然后用丙酮,接着使用异丙醇来漂洗芯片的表面、排热器件的表面和金属TIM预制件,并使用氮吹干。本领域技术人员将懂得,除油和清洁芯片的表面、排热器件的表面和金属TIM预制件不限于上面描述的步骤,并且可使用本领域已知的其它溶剂来清洁表面。

例如,可使用反向溅射来清洁芯片的表面和排热器件的表面。反向溅射是本领域已知的通过在电场中加速的气体离子的冲击能量来执行从材料表面脱离或去除原子或分子的工艺。反向溅射只是表面清洁的一个实施例。可使用其它方法,例如机械清洁、化学蚀刻或等离子体清洁。

在一个或多个实施例中,芯片是基于硅的管芯封装。在一个或多个实施例中,排热器件是基于铜的盖。

在ST102,芯片表面和排热器件表面中的每一个被涂敷粘合剂层、阻挡层和保护层。可通过溅射涂敷来沉积粘合剂层、阻挡层和保护层。本领域技术人员将懂得,粘合剂层、阻挡层和保护层的沉积不限于溅射涂敷。例如,可使用化学汽相沉积、化学镀层或本领域已知的其它技术。

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