[发明专利]高功率密度芯片的金属热接合有效
| 申请号: | 201110421727.3 | 申请日: | 2011-12-16 |
| 公开(公告)号: | CN102543763A | 公开(公告)日: | 2012-07-04 |
| 发明(设计)人: | S·安基莱蒂;V·盖克廷;J·A·琼斯;M·B·斯特恩 | 申请(专利权)人: | 甲骨文美国公司 |
| 主分类号: | H01L21/48 | 分类号: | H01L21/48 |
| 代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 高青 |
| 地址: | 美国加*** | 国省代码: | 美国;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 功率密度 芯片 金属 接合 | ||
1.一种半导体封装装配方法,包括:
通过反向溅射来清洁芯片的表面和排热器件的表面;
在目标接合区域上,顺序地涂敷芯片的表面和排热器件的表面以粘合剂层、阻挡层和保护层;
把芯片和排热器件分别放入第一和第二承载夹具内;
把第一和第二承载夹具预加热到目标温度;
预加热之后,把金属热界面材料预制件放到芯片的表面上;
在芯片的表面上机械地碾压所述金属热界面材料;
附接所述第一和第二承载夹具,使得芯片表面上的金属热界面材料层与排热器件的被涂敷表面接合;以及
在回流炉中加热被接合的承载夹具。
2.按照权利要求1所述的方法,其中,所述方法是无焊剂的。
3.按照权利要求1所述的方法,进一步包括:
在作为加热分布的结果被接合的承载夹具已冷却之后,把粘合剂涂敷到排热器件的周边。
4.按照权利要求1所述的方法,进一步包括:
在附接所述第一和第二承载夹具之前,把粘合剂涂敷到排热器件的周边。
5.按照权利要求1所述的方法,其中,所述目标温度是至少60℃。
6.按照权利要求1所述的方法,其中,所述目标接合区域的100%被涂敷所述粘合剂层、阻挡层和保护层。
7.按照权利要求6所述的方法,其中,通过溅射涂敷来执行所述粘合剂层、阻挡层和保护层的涂敷。
8.按照权利要求1所述的方法,其中,所述金属热界面材料预制件覆盖所述目标接合区域的90%到100%。
9.按照权利要求1所述的方法,进一步包括:与所述第一和第二承载夹具一起预加热所述金属热界面材料预制件。
10.按照权利要求1所述的方法,进一步包括:在预加热之前,化学地清洁所述芯片的表面、所述排热器件的表面以及所述金属热界面材料预制件。
11.按照权利要求10所述的方法,其中,所述化学清洁包括:
利用丙酮来除油芯片的表面、排热器件的表面和金属热界面材料预制件,接着,利用异丙醇来漂洗芯片的表面、排热器件的表面和金属热界面材料预制件;
利用盐酸来蚀刻芯片的表面、排热器件的表面和金属热界面材料预制件,接着用脱离子水来漂洗芯片的表面、排热器件的表面和金属热界面材料预制件;以及
利用氮来吹干芯片的表面、排热器件的表面和金属热界面材料预制件。
12.按照权利要求1所述的方法,其中,所述金属热界面材料包含铟。
13.按照权利要求1所述的方法,其中,所述粘合剂层是钛,并且约0.1微米厚。
14.按照权利要求1所述的方法,其中,所述阻挡层包括镍和钒,并且约0.3微米厚。
15.按照权利要求1所述的方法,其中,所述阻挡层是97%的镍和3%的钒。
16.按照权利要求1所述的方法,其中,所述保护层是金,并且约0.2微米厚。
17.一种具有基本上无空隙界面的半导体封装,其中,所述半导体封装是通过包括下列步骤的方法装配的:
通过反向溅射来清洁芯片的表面和排热器件的表面;
在目标接合区域上,顺序地涂敷芯片的表面和排热器件的表面以粘合剂层、阻挡层和保护层;
把芯片和排热器件分别放入第一和第二承载夹具内;
把第一和第二承载夹具预加热到目标温度;
预加热之后,把金属热界面材料预制件放到芯片的表面上;
在芯片的表面上机械地碾压所述金属热界面材料;
附接所述第一和第二承载夹具,使得芯片表面上的金属热界面材料层与排热器件的被涂敷表面接合;以及
在回流炉中加热被接合的承载夹具。
18.按照权利要求17所述的半导体封装,其中,所述方法是无焊剂的。
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