[发明专利]一种亚稳态面心立方相块体钴金属及其制备方法无效

专利信息
申请号: 201110418545.0 申请日: 2011-12-14
公开(公告)号: CN103157793A 公开(公告)日: 2013-06-19
发明(设计)人: 孟庆坤;赵新青 申请(专利权)人: 北京航空航天大学
主分类号: B22F3/16 分类号: B22F3/16;C22C19/07;C22B23/02
代理公司: 北京金恒联合知识产权代理事务所 11324 代理人: 李强
地址: 100191*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 亚稳态 立方 块体 金属 及其 制备 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及亚稳材料领域,具体的是涉及一种亚稳态面心立方相块体钴金属,本发明还涉及该亚稳态面心立方相块体钴金属的制备方法。

背景技术

钴(Co)具有优良的物理、化学和机械性能,是制造高强度合金、耐高温合金、硬质合金、磁性材料和催化剂等的重要材料,应用非常广泛。常规块体Co金属具有两种晶体结构,在同素异构转变温度(420℃附近)以上保持面心立方(fcc)相,而在此温度以下则保持密排六方(hcp)相。由于纳米Co微粒在超高磁记录领域有着重要的应用前景,近些年纳米Co(晶粒)微粒的制备研究开始受到关注。大量的实验结果表明[1,2]纳米尺度的Co(晶粒)微粒或者薄膜可以在室温下保持其高温相,即fcc相,也就是说Co(晶粒)微粒可以在室温下保持亚稳结构。Zhao[3,4]等人的研究表明,纳米、亚微米和微米尺寸的Co微粒都具有在室温下保持亚稳fcc相的特性。他们发现在相当宽的尺度范围内,Co微粒的晶体结构和尺寸无关,而取决于制备过程或者加工过程中微粒的热经历,即:Co微粒只要在制备和加工过程中经历了高于同素异构转变的温度,则在随后的冷却中将一直保持亚稳结构至室温或低温。只有当微粒尺寸足够大(至少数十微米),高温冷却时Co微粒才可能发生fcc-hcp相变。Wen等人采用表面机械纳米化(SMAT)[5]的方法在Co板上制备一层厚约20μm纳米晶Co金属薄膜。该薄膜在室温下由fcc相和hcp相组成,fcc相的最高含可以达到17%。

发明内容

根据本发明的一个方面,提供了一种亚稳态面心立方相块体钴金属的制备方法,其特征在于包括:

取预定重量的钴粉;

压结步骤,将所取的钴粉压制成所需形状的素坯;

烧结步骤,将压制所得的素坯在预定的温度、时间和气氛下进行烧结。

根据本发明的一个进一步的方面,提供了用上述方法制备的亚稳态面心立方相块体钴金属。

根据本发明的另一个方面,提供了一种亚稳态面心立方相块体钴金属,其特征在于,采用CuKa靶,该金属的X射线衍射图谱在扣除背底和剥离Ka2后,fcc相(200)晶面衍射峰高度与hcp相(101)晶面衍射峰高度的比值大于0.5。

附图说明

图1为实施例1中所采用Co粉的XRD图谱。

图2为实施例1中1200℃×1小时空冷所得烧结亚稳块体的XRD图谱。

图3为实施例6中1000℃×1小时水淬所得烧结亚稳块体的XRD图谱。

图4为实施例7中1000℃×1小时空冷所得烧结亚稳块体的拉伸应力-应变曲线。

图5a为实施例8中1#试样的磁化强度-磁场强度曲线。

图5b为实施例8中2#试样的磁化强度-磁场强度曲线。

具体实施方式

本发明针对上述技术现状,提供了一种亚稳态面心立方相块体钴金属,本发明还提供了一种亚稳态面心立方相块体钴金属的制备方法。

根据本发明的一个方面,提供了一种亚稳态面心立方相块体钴金属,其特征在于,采用CuKa靶,该金属的X射线衍射(XRD)图谱在扣除背底和剥离Ka2后,fcc相(200)晶面衍射峰高度与hcp相(101)晶面衍射峰高度的比值{记作:(200)fcc/(101)hcp}大于0.5。

(本说明书中使用(200)fcc/(101)hcp表示粉末以及烧结块体钴金属中两相的相对含量,它的具体意义是:采用CuKa靶,金属的XRD图谱在扣除背底和剥离Ka2后,fcc相(200)晶面衍射峰高度与hcp相(101)晶面衍射峰高度的比值)。

根据本发明的另一个方面,提供了一种亚稳态面心立方相块体钴金属的制备方法,其特征在于包括:

取预定重量的钴粉;

压结步骤,将所取的钴粉压制成所需形状的素坯;

烧结步骤,将压制所得的素坯在预定的温度、时间和气氛下进行烧结。

根据本发明的一个进一步的方面,上述预定重量根据所述块体钴金属的厚度和所用模具的大小确定;上述压结步骤系使用磨具在压片机上进行。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京航空航天大学,未经北京航空航天大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110418545.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top