[发明专利]磁盘基板用研磨液组合物

权利要求书

1.一种磁盘基板用研磨液组合物，含有无机粒子、二烯丙基胺聚合物、酸及水，其中，所述二烯丙基胺聚合物具有选自由下述通式(I-a)、(I-b)、(I-c)及(I-d)所示的结构单元构成的组中的1种以上的结构单元，研磨液组合物中的所述二烯丙基胺聚合物的含量为0.008～0.100重量％，

上述式(I-a)及(I-b)中，R¹表示氢原子、可以具有羟基的碳原子数1～10的烷基或碳原子数7～10的芳烷基，

上述式(I-c)及(I-d)中，R²表示可以具有羟基的碳原子数1～10的烷基或碳原子数7～10的芳烷基，R³表示碳原子数1～4的烷基或碳原子数7～10的芳烷基，D^-表示一价的阴离子。

2.如权利要求1所述的磁盘基板用研磨液组合物，其中，所述二烯丙基胺聚合物还具有下述通式(II)所示的结构单元，

3.如权利要求1或2所述的磁盘基板用研磨液组合物，其中，所述无机粒子含有氧化铝粒子。

4.如权利要求3所述的磁盘基板用研磨液组合物，其中，所述无机粒子还含有二氧化硅粒子。

5.如权利要求1～4中任一项所述的磁盘基板用研磨液组合物，其中，所述二烯丙基胺聚合物的重均分子量为1,000～500,000。

6.如权利要求1～5中任一项所述的磁盘基板用研磨液组合物，其中，所述二烯丙基胺聚合物的总结构单元中的所述通式(I-a)、(I-b)、(I-c)及(I-d)所示的结构单元的合计含量为30～100摩尔％。

7.如权利要求2～6中任一项所述的磁盘基板用研磨液组合物，其中，所述二烯丙基胺聚合物的总结构单元中的所述通式(II)所示的结构单元的含量为10～60摩尔％。

8.如权利要求2～7中任一项所述的磁盘基板用研磨液组合物，其中，所述二烯丙基胺聚合物的总结构单元中的通式(I-a)～(I-d)的结构单元和通式(II)的结构单元的摩尔比即通式(I-a)～(I-d)/通式(II)为90/10～30/70。

9.如权利要求2～8中任一项所述的磁盘基板用研磨液组合物，其中，所述二烯丙基胺聚合物的总结构单元中的通式(I-a)～(I-d)的结构单元和通式(II)的结构单元的合计含量为70摩尔％以上。

10.如权利要求1～9中任一项所述的磁盘基板用研磨液组合物，其中，所述研磨液组合物中的所述二烯丙基胺聚合物的含量为0.100重量％以下，且/或为0.008重量％以上。

11.如权利要求1～10中任一项所述的磁盘基板用研磨液组合物，其中，所述研磨液组合物中的所述二烯丙基胺聚合物的含量为0.008～0.100重量％。

12.如权利要求1～11中任一项所述的磁盘基板用研磨液组合物，其中，所述研磨液组合物的pH为1～3。

13.如权利要求4～12中任一项所述的磁盘基板用研磨液组合物，其中，所述氧化铝粒子和所述二氧化硅粒子的重量比即氧化铝粒子重量/二氧化硅粒子重量为10/90～70/30。

14.如权利要求3～13中任一项所述的磁盘基板用研磨液组合物，其中，所述研磨液组合物中的所述二烯丙基胺聚合物和所述氧化铝的含量比即二烯丙基胺聚合物的含量/氧化铝含量为0.001～0.1。

15.如权利要求3～14中任一项所述的磁盘基板用研磨液组合物，其中，所述氧化铝粒子含有α-氧化铝及中间氧化铝。

16.如权利要求15所述的磁盘基板用研磨液组合物，其中，所述氧化铝粒子中的α-氧化铝的含量为30～90重量％。

17.如权利要求15或16所述的磁盘基板用研磨液组合物，其中，所述氧化铝粒子中的中间氧化铝的含量为10～70重量％。

18.如权利要求15～17中任一项所述的磁盘基板用研磨液组合物，其中，所述氧化铝粒子中的α-氧化铝和中间氧化铝的重量比即α-氧化铝的重量％/中间氧化铝的重量％为95/5～10/90。