[发明专利]薄膜显示元件的检查修正方法以及检查修正装置

权利要求书

1.一种薄膜显示元件的检查修正方法，其是通过检查薄膜显示元件的发光状态来修正不良部位的方法，该薄膜显示元件具有在发光层上形成的金属电极膜和在所述发光层的与所述金属电极膜相反的一侧形成的透明电极膜，该方法的特征在于，

对所述金属电极和所述透明电极施加电力，使所述发光层发光，

针对所述金属电极，从所述透明电极一侧观察该发光层的发光状态，检测所述发光层中不发光的位置，

根据该检测出的所述发光层中不发光的位置的信息，从与所述透明电极相反的一侧对所述金属电极照射激光，去除所述发光层中不发光的位置的上方的所述金属电极膜。

2.根据权利要求1所述的薄膜显示元件的检查修正方法，其特征在于，

根据检测出所述发光层中不发光的位置的信息，从所述透明电极一侧对所述不发光的位置进行光学检查，检测出缺陷，使用该光学检查所检测出的缺陷的信息，从与所述透明电极相反的一侧对所述金属电极照射激光，去除所述发光层中不发光的位置的上方的所述金属电极膜。

3.根据权利要求2所述的薄膜显示元件的检查修正方法，其特征在于，

所述光学检查所检测出的缺陷的信息包含该缺陷的位置信息和该缺陷的大小的信息。

4.根据权利要求1所述的薄膜显示元件的检查修正方法，其特征在于，

根据从所述透明电极一侧观察从而检测出的所述发光层中不发光的位置的信息，从所述透明电极一侧对所述检测出的发光层中不发光的位置进行光学检查，当在所述发光层中不发光的位置检测出异物缺陷时，使用该检测出的异物缺陷的信息，从与所述透明电极相反的一侧对所述金属电极照射激光，对所述异物缺陷的上方的所述金属电极膜进行去除加工；当未在所述发光层中不发光的位置检测出异物缺陷时，作为无法进行修正的缺陷来进行处理。

5.根据权利要求1～4中任一项所述的薄膜显示元件的检查修正方法，其特征在于，

检测所述发光层中不发光的位置和去除所述金属电极膜在干氮等非活性气体环境中进行。

6.一种薄膜显示元件的检查修正装置，其通过对薄膜显示元件的发光状态进行检查来修正不良部位，该薄膜显示元件具有在发光层上形成的金属电极膜和在所述发光层的与所述金属电极膜相反的一侧形成的透明电极膜，该检查修正装置的特征在于，具有：

电力施加单元，其对所述薄膜显示元件的金属电极和所述透明电极施加电力，使所述发光层发光；

发光状态观察单元，其针对所述金属电极从所述透明电极一侧观察通过该电力施加单元被施加了电力的所述薄膜显示元件的发光层的发光状态，检测所述发光层中不发光的位置；以及

薄膜去除加工单元，其根据通过该发光状态观察单元所检测出的所述发光层中不发光的位置的信息，从与所述透明电极相反的一侧对所述金属电极照射激光，去除所述发光层中不发光的位置的上方的所述金属电极膜。

7.根据权利要求6所述的薄膜显示元件的检查修正装置，其特征在于，

还具备光学检测单元，其根据通过所述发光状态观察单元从所述透明电极侧观察所述薄膜显示元件而检测出的所述发光层中不发光的位置的信息，从所述透明电极一侧对所述检测出的发光层中不发光的位置进行光学检查，检测缺陷，

所述薄膜去除加工单元使用通过所述光学检测单元进行光学检查所检测出的缺陷的信息，从与所述透明电极相反的一侧对所述金属电极照射激光，去除所述发光层中不发光的位置的上方的所述金属电极膜。

8.根据权利要求7所述的薄膜显示元件的检查修正装置，其特征在于，

通过所述光学检测单元进行光学检查而检测出的缺陷的信息包含该缺陷的位置信息和该缺陷的大小的信息。

9.根据权利要求6所述的薄膜显示元件的检查修正装置，其特征在于，

还具备：

光学检测单元，其根据通过所述发光状态观察单元从所述透明电极一侧观察所述薄膜显示元件而检测出的所述发光层中不发光的位置的信息，从所述透明电极一侧对所述检测出的发光层中不发光的位置进行光学检查；以及

缺陷判定单元，其当通过该光学检测单元在所述发光层中不发光的位置检测出异物缺陷时，判断为是所述薄膜去除加工单元使用该检测出的异物缺陷的信息能够进行去除加工的缺陷；当通过该光学检测单元未在所述发光层中不发光的位置检测出异物缺陷时，判定为不可修正的缺陷。

10.根据权利要求6～9中任一项所述的薄膜显示元件的检查修正装置，其特征在于，

还具备：

箱体单元，其用于收容所述电力施加单元、所述发光状态观察单元以及所述薄膜去除加工单元；以及

气体供给单元，其使该箱体单元的内部充满干氮等非活性气体。