[发明专利]一种制备铜铟镓硒薄膜的等离子体协助硒化工艺及装置有效
申请号: | 201110406154.7 | 申请日: | 2011-12-08 |
公开(公告)号: | CN102443779A | 公开(公告)日: | 2012-05-09 |
发明(设计)人: | 罗派峰;任宇航;黄治 | 申请(专利权)人: | 尚越光电科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/30 | 分类号: | C23C16/30;C23C16/452;C23C16/56;H01L31/18 |
代理公司: | 杭州新源专利事务所(普通合伙) 33234 | 代理人: | 李大刚 |
地址: | 310023 浙江省杭*** | 国省代码: | 浙江;33 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 制备 铜铟镓硒 薄膜 等离子体 协助 化工 装置 | ||
技术领域
本发明涉及一种制备铜铟镓硒薄膜的等离子体协助硒化工艺,属于太阳能发电技术领域。
背景技术
CIGS(铜铟镓硒薄膜薄膜电池)类为代表的新一代薄膜电池由于具有吸收率高、带隙可调、成本低廉、转换率高、弱光性好、性能稳定以及抗辐射能力强等优点,而被公认为是第三代太阳能电池的最佳材料之一,因而已成为当前国际光伏界的研究热点。CIGS电池是以CIGS材料为光吸收层的一类薄膜电池。近年来在其优良性能和巨大需求背景之下,包括美国可再生能源实验室NREL、全球太阳能GSE、壳牌太阳能Shell Solar、日本本田Honda、昭和壳牌石油Showa Shell、德国伍尔特Wurth Solar等全球近50家公司机构投入巨额财力和人力进行研发与生产,2009年全球CIGS电池产能超过660MW,增幅超过300%,显示出良好的发展势头。
在CIGS电池光吸收层材料CIGS薄膜的制备方式中,除了共蒸发制程以外(大面积产业化时均匀性差),其它方式如溅射制程、非真空涂布或电镀制程均需经过硒化处理。目前,工业界较为流行的硒化路线大致分为两类:快速硒化RTP工艺及H2Se气态源硒化工艺。RTP工艺一般是预蒸发一定量Se,然后快速退火硒化得到CIGS薄膜,可减少In2Se3挥发,但是由于该工艺是近年来才发展起来的新工艺,在薄膜均匀性及玻璃应力克服方面还有待改进,其电池效率也明显低于传统H2Se气态源硒化工艺制备的电池效率,因而当前CIGS薄膜太阳电池生产企业大多还是采用H2Se气体进行硒化。因为H2Se在高温下分解为H2和Se原子,反应活性高,制备出的CIGS薄膜结晶品质高,均匀性好。但是H2Se气体剧毒,且属易燃易爆气体,因而对硒化炉的气密性设计要求非常高,同时需配备监测系统及尾气处理装置。再有,H2Se气体中水汽含量及对设备的腐蚀问题也不容忽视。而最大障碍还是其来源问题,当前高纯H2Se气体几乎都是依赖进口,其价格十分昂贵,每公斤价格接近2万,按年消耗400kg,初步估算一年30MW线光是H2Se气体已近千万,无疑增加了电池成本,同时货源受制于西方国家管制,需要通过美国商务部等相关部门的审批,手续及渠道非常繁琐。因而当前国内外光伏界正积极研发固态源硒化设备及工艺。所谓固态源硒化,即采用加热固态Se粉或颗粒,成为Se蒸气,进而与铜铟镓金属预置层或前驱体发生硒化反应,得到CIGS薄膜。固态源硒化几乎无毒,符合环保要求;同时成本低廉,设备简单,因而可有效降低生产成本。但是,固态源硒化还存在许多缺点,比如简单热蒸发产生的Se蒸气一般为多个Se原子组成Sex(x≥2)大分子团,反应活性不高,因而经常造成金属前驱体硒化不完全,硒化时间过长,硒化温度偏高,硒化过程中Ga的偏聚及MoSe2过厚,反应量不易控制,薄膜均匀性及重复性都比较差,所以制备的电池效率都比较低,虽然早在上世纪末就有固态源硒化工艺报道,但由于存在以上问题,因而至今仍无商业化成功范例。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于尚越光电科技有限公司,未经尚越光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110406154.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:插装式溢流阀
- 下一篇:一种烃油催化裂化方法和烃油催化裂化设备
- 同类专利
- 专利分类
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的