[发明专利]一种十纳米量级尺寸及误差光学检测方法有效
| 申请号： | 201110397689.2 | 申请日： | 2011-12-02 |
| 公开（公告）号： | CN102494606A | 公开（公告）日： | 2012-06-13 |
| 发明（设计）人： | 张永刚;李成;顾溢 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 |
| 主分类号： | G01B9/04 | 分类号： | G01B9/04 |
| 代理公司： | 上海泰能知识产权代理事务所 31233 | 代理人： | 宋缨;孙健 |
| 地址： | 200050 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 纳米 量级 尺寸 误差 光学 检测 方法 | ||
1.一种十纳米量级尺寸及误差光学检测方法，其特征在于，包括以下步骤：
(1)利用数字成像显微器件对被测对象进行数码成像；
(2)提取数码成像中与被测对象尺寸信息对应的像素位置坐标及强度信息，作为目标信息进行处理统计；
(3)根据统计结果获得所需的被测对象的相关尺寸参数及误差参数。
2.根据权利要求1所述的十纳米量级尺寸及误差光学检测方法，其特征在于，所述步骤(1)中所述的配有CCD/CMOS成像器件的光学显微镜。
3.根据权利要求2所述的十纳米量级尺寸及误差光学检测方法，其特征在于，所述的配有CCD/CMOS成像器件的光学显微镜为配有CCD数字照相机的智能显微镜，采用150倍物镜和10倍目镜。
4.根据权利要求1所述的十纳米量级尺寸及误差光学检测方法，其特征在于，所述步骤(2)包括以下子步骤：
(21)提取数码成像中与被测对象尺寸信息对应的像素位置坐标和强度信息，形成二维矩阵数据文件；
(22)根据实际图像在感兴趣的部位选取合适位置，提取一维数据，得到一维尺寸相关信息。
5.根据权利要求4所述的十纳米量级尺寸及误差光学检测方法，其特征在于，所述步骤(21)中直接根据数码成像文件中的RGB数据提取数码成像中与被测对象尺寸信息对应的像素位置坐标和强度信息。
6.根据权利要求4所述的十纳米量级尺寸及误差光学检测方法，其特征在于，所述步骤(21)中将数码成像文件中的RGB数据处理成黑白数据后再提取数码成像中与被测对象尺寸信息对应的像素位置坐标和强度信息。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院上海微系统与信息技术研究所，未经中国科学院上海微系统与信息技术研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110397689.2/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
