[发明专利]一种含超低杂质硅化镁合金的制作方法无效
| 申请号: | 201110387405.1 | 申请日: | 2011-11-30 |
| 公开(公告)号: | CN103131922A | 公开(公告)日: | 2013-06-05 |
| 发明(设计)人: | 李庆新 | 申请(专利权)人: | 李庆新 |
| 主分类号: | C22C23/00 | 分类号: | C22C23/00;C22C1/02;C22C1/06 |
| 代理公司: | 辽宁沈阳国兴专利代理有限公司 21100 | 代理人: | 侯景明 |
| 地址: | 110136 辽宁省沈*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 含超低 杂质 镁合金 制作方法 | ||
1.一种含超低杂质硅化镁合金的制作方法,其特征包括如下工艺步骤:
A、将金属镁脱硅、脱银、脱磷,使镁中硅、银、磷含量降为Ag<0.04,P<0.03,Si<0.8,余量为Mg;
B、将上述金属镁破碎至小于∮2的颗粒后,置于一密封的、其壁上装有两根不锈钢管的不锈钢容器里;
C、将上述不锈钢容器放进电炉中,将不锈钢容器上的不锈钢管分别接通纯硅气源和盛水容器;
D、打开硅气源的通气阀,向盛有上述金属镁的不锈钢容器中充纯硅气,当盛水容器里的不锈钢管开口处有气泡冒出时,观测硅气的流量,给电炉送电,升温至500—650℃,保温60—120小时;
E、电炉断电,继续充硅气至不锈钢容器温度降温至室温,此时其内盛有的所述金属镁为超低杂质含量的硅化镁合金,具体为:Ag<0.01,P<0.015,S<0.6,Si为4.0-6.8,余量为Mg。
2.根据权利要求1所述一种含超低杂质硅化镁合金的制作方法,其特征在于:所述的金属镁可用杂质元素低的电解金属镁代替。
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