[发明专利]一种含超低杂质硅化镁合金的制作方法无效
| 申请号: | 201110387405.1 | 申请日: | 2011-11-30 |
| 公开(公告)号: | CN103131922A | 公开(公告)日: | 2013-06-05 |
| 发明(设计)人: | 李庆新 | 申请(专利权)人: | 李庆新 |
| 主分类号: | C22C23/00 | 分类号: | C22C23/00;C22C1/02;C22C1/06 |
| 代理公司: | 辽宁沈阳国兴专利代理有限公司 21100 | 代理人: | 侯景明 |
| 地址: | 110136 辽宁省沈*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 含超低 杂质 镁合金 制作方法 | ||
技术领域
本发明涉及硅化镁合金,尤其涉及一种含超低杂质硅化镁合金的制作方法。
背景技术
硅化镁是一种窄带隙n-型半导体,具有高的电导率和低的热导率且无毒无污染、耐腐蚀,是很有潜力的环境友好型中温域热电材料。按照传统的生产硅化镁的方法,将真空泵、硅镁转运罐、硅镁收料罐依次连接,硅镁收料罐通过进料阀与硅镁反应器连接,硅镁反应器的内部依次分为预热段、隔热段、引发段、反应移热段和补加热段,硅镁反应器依次连接粉碎器和硅镁冷却器再与硅化镁储罐连接,将整个生产设备抽真空充入保护气体,将硅粉与镁粉按摩尔比混合加入硅镁转运罐,再送入硅镁收料罐,打开进料阀,将硅镁混合料连续加入硅镁反应器,控制反应温度生成硅化镁,再依次通过粉碎器和硅镁冷却器进入硅化镁储罐。其硅含量低、杂质元素高,目前从市场上的得到的最纯净的硅化镁元素(重量百分比)含量为:Si>4.0,Ag<0.04,P<0.03,S<0.8,余量为Mg,因此无法满足含硅量高的高性能合金的要求。但还没有硅含量高、杂质元素低的纯净化硅化镁产品。
发明内容
本发明针对上述现有技术中存在的问题,提供了一种硅含量高、杂质元素低的硅化镁合金的制作方法,用以进行连续的、反应温度均匀的、生产效率高及含硅量高的大规模生产。
本发明一种含超低杂质硅化镁合金的制作方法,包括如下工艺步骤:
a、将金属镁脱硫、脱银、脱磷,使镁中硅、银、磷含量降为Ag<0.04,P<0.03,S<0.8,余量为Mg;
b、将上述金属镁破碎至小于∮2的颗粒后,置于一密封的、其壁上装有两根不锈钢管的不锈钢容器里;
c、将上述不锈钢容器放进电炉中,将不锈钢容器上的不锈钢管分别接通纯硅气源和盛水容器;
d、打开硅气源的通气阀,向盛有上述金属镁的不锈钢容器中充纯硅气,当盛水容器里的不锈钢管开口处有气泡冒出时,观测硅气的流量,给电炉送电,升温至500—650℃,保温60—120小时;
e、电炉断电,继续充硅气至不锈钢容器温度降温至室温,此时其内盛有的所述金属镁为超低杂质含量的硅化镁合金,具体为:Ag<0.01,P<0.015,S<0.6,Si为4.0-6.8,余量为Mg。
所述的金属镁可用杂质元素低的电解金属镁代替。
本发明的优点效果如下:
一种含超低杂质硅化镁合金的工艺简单易行。从金属镁的杂质元素着手,经过简单的处理,能进一步降低硫、磷、银的含量,从而取得超低杂质含量的纯净化硅化镁,进行连续的、反应温度均匀的、生产效率高及含硅量高的大规模生产。
具体实施方式
下面结合实施例对本发明作进一步详细说明。
实施例1
首先把电解金属镁利用真空感应炉经过脱硫、脱银、脱磷处理,使镁中的硫、银及磷含量降低到Ag<0.04,P<0.03,S<0.8,余量为Mg;把经过上述处理的电解金属镁破碎至小于∮2的颗粒,再把镁粒放置到一密闭的不锈钢箱中,在这个不锈钢中通有两根不锈钢管,做为制备硅化镁的进硅气和出硅气的通路;再将盛有电解金属镁颗粒的密闭的不锈钢箱置入马福炉中,经其中一根不锈钢管充纯硅气到不锈钢箱中,另一根不锈钢管的管头处放置到一盛有水的盒中,以便在通硅气时直观的观测硅气的流量;在这一切准备就绪后,开通硅气的通气阀,使硅气流入不锈钢箱中,排除不锈钢箱里的空气,当水盒中有气泡流出时,送电,给马福炉加热升温,将温度控制在550℃,保温110小时;将马福炉断电,继续经不锈钢管向不锈钢箱通硅气,电解金属镁的不锈钢箱降至室温为止。处理后具体技术数据为:原电解金属镁的银、磷、硫、含量为:Ag=0.04,P=0.03,S=0.8,经过脱杂质元素处理后的电解金属镁为:Ag=0.015,P=0.001,S=0.3,,将处理后的电解金属镁破碎至小于∮2的小颗粒,经过在550℃,保温105小时后,得到硅化镁的各元素含量,取四点随机采样分析如下:
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