[发明专利]用于射频工艺中的电感地屏蔽结构

权利要求书

1.一种用于射频工艺中的电感地屏蔽结构，其特征在于：包括四根接地线(1)，所述四根接地线(1)呈十字状分布且其靠近的内部一端互不接触，每条接地线(1)在其所在平面内引出多条阻挡线(2)，所述阻挡线(2)分别垂直于所在的接地线(1)且互不相交。

2.根据权利要求1所述的用于射频工艺中的电感地屏蔽结构，其特征在于：位于两条水平接地线上方的垂直接地线引出的阻挡线(2)向右延伸，下方的垂直接地线引出的阻挡线(2)向左延伸；位于两条垂直接地线左方的水平接地线引出的阻挡线(2)向上延伸，右方的水平接地线引出的阻挡线(2)向下延伸。

3.根据权利要求1所述的用于射频工艺中的电感地屏蔽结构，其特征在于：位于两条水平接地线上方的垂直接地线引出的阻挡线(2)向左延伸，下方的垂直接地线引出的阻挡线(2)向右延伸；位于两条垂直接地线左方的水平接地线引出的阻挡线(2)向下延伸，右方的水平接地线引出的阻挡线(2)向上延伸。