[发明专利]透光单银低辐射镀膜玻璃及其制造方法无效
申请号: | 201110381757.6 | 申请日: | 2011-11-25 |
公开(公告)号: | CN102501450A | 公开(公告)日: | 2012-06-20 |
发明(设计)人: | 林嘉宏 | 申请(专利权)人: | 林嘉宏 |
主分类号: | B32B9/04 | 分类号: | B32B9/04;B32B15/00;B32B17/00 |
代理公司: | 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 | 代理人: | 董建林 |
地址: | 215321 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 透光 单银低 辐射 镀膜 玻璃 及其 制造 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种镀膜玻璃,具体是一种透光单银低辐射镀膜玻璃及其制造方法。
背景技术
目前市场上普通单银低辐射镀膜产品,由于使用金属膜层作为银层保护层,往往透光不能做到很高,而且金属层保护层的存在也使得膜层对光线的吸收增加,使得玻璃看上不够清澈、通透。
发明内容
本发明的技术目的是解决现有技术中存在的问题,提供一种清澈、通透的低辐射镀膜玻璃及其制造方法。
本发明的技术方案是:
一种透光单银低辐射镀膜玻璃,包括玻璃基板和镀在玻璃基板上的镀膜膜层,其特征在于:
以玻璃基板为基础,所述镀膜膜层自内向外依次包括第一电介质层、第二电介质层、银层、第三电介质层、第四电介质层及第五电介质层;
其中,第三电介质层为AZO层,该膜层的作用是保护银层不被氧化,并且提高银层和其它膜层的附着力;
进一步的技术方案还包括:
第一电介质层为NbOx层,根据镀膜工艺条件设定的不同,镀膜最终形成的材料为铌氧化物中的一种。该镀层的作用是阻止玻璃中的Na+向膜层中渗透,提高膜层透过率,能够有效增加膜层和玻璃基片之间的吸附力,并且控制膜系的光学性能和颜色;
第二电介质层为ZnAlOx层,该层对银层起铺垫作用,银层在其上可以更好地成膜,并且保护银层不被氧化;
银层的材料为Ag,用于降低辐射率,达到隔热、保温的效果;
第四电介质层为ZnSnO3层,该膜层保护整个膜层结构,减少氧化,提高膜层的物理和化学性能,并且控制膜系的光学性能和颜色。
第五电介质层的材料为Si3N4层,该膜层的作用是在银层和电介质层之间提供吸附力,保护整个膜层结构,减少氧化,提高膜层的物理和化学性能,并且控制膜系的光学性能和颜色。
一种用于生产上述透光单银低辐射镀膜玻璃的方法,其特征在于,所述玻璃基板上的镀膜膜层采用真空磁控溅射镀膜,包括以下步骤:
步骤一、清洗干燥玻璃基板;
步骤二、进行预真空过渡;
步骤三、在玻璃基板上依次镀制第一电介质层、第二电介质层、银层、第三电介质层、第四电介质层、第五电介质层;
所述第三电介质层通过旋转交流阴极的AZO靶在纯氩或氧、氩氛围中溅射镀膜;
进一步的技术方案还包括:
所述第一电介质层通过旋转交流阴极的陶瓷氧化铌靶在氧、氩氛围中溅射镀膜;
所述第二电介质层通过旋转交流阴极的锌铝靶在氧、氩氛围中溅射镀膜,其中质量比Zn∶Al=98∶2;
所述银层通过直流平面阴极的银靶在氩气氛围中溅射;
所述第四电介质层通过旋转交流阴极的锌锡靶在氧、氩氛围中溅射镀膜,其中质量比Zn∶Sn=50∶50;
所述第五电介质层通过旋转交流阴极的硅铝靶在氮、氩氛围中溅射镀膜,其中质量比Si∶Al=92∶8;
作为优选方案,在镀膜第一电介质层时,氧气与氩气的体积比设为1∶10;
镀膜第二电解质层,氧气与氩气的体积比设为9∶14;
镀膜第三电解质层,氧气与氩气的体积比设为9∶100;
镀膜第四电解质层,氧气与氩气的体积比设为3∶2;
镀膜第五电解质层,氮气与氩气的体积比设为2∶1。
本发明生产的产品由于使用了陶瓷材料AZO作为银层后电介质层,取代了现有产品中的金属保护层,并且使用高折射率的新型材料来抵消银层的吸收,所以使得本发明产品的透光可以达到和同厚度玻璃原板一样,甚至更高的透过率,并且产品外观清澈、通透,还可以保证良好的隔热、保温效果,符合消费者追求自然环保的需求。
附图说明
图1是本发明的结构示意图;
图2是本发明的流程示意图。
具体实施方式
为了阐明本发明的技术方案及技术目的,下面结合附图及具体实施方式对本发明做进一步的介绍。
如图所示,一种透光单银低辐射镀膜玻璃,包括玻璃基板和镀在玻璃基板上的镀膜膜层,以玻璃基板为基础,所述镀膜膜层自内向外依次包括第一电介质层、第二电介质层、银层、第三电介质层、第四电介质层及第五电介质层;
其中,第一电介质层为NbOx层,通过旋转交流阴极的陶瓷氧化铌靶在氧氩氛围中溅射镀膜,氧气与氩气的体积比为1∶10;
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