[发明专利]配向膜的形成方法

说明书

技术领域

本发明是有关于一种配向膜的形成方法，且特别是有关于一种利用曝光的形成配向膜的形成方法。

背景技术

传统上，形成配向膜的步骤包含涂布(Dispensing)、烘烤(Baking)、配向(Aligning)及洗净(Cleaning)。首先，在两基板上分别涂布聚酰亚胺(Polyimide，PI)作为配向膜的材料。然后，借由烧成炉以进行烘烤，使配向膜热硬化。然后，在已热硬化的配向膜上，利用配向设备(例如滚轮)依据一预定方向加以摩擦(rubbing)以形成凹痕。最后，借由洗净设备将两基板洗净。如此，配向膜上就具有一定方向的凹痕及角度，可使液晶分子依循排列。当二基板皆形成配向膜后，便可进行后续的面板制程，将二基板对位贴合，并填充液晶。

由于已知技术是采用接触方式来形成配向膜，即摩擦配向膜以形成凹痕，所以在过程中会残留粉屑，以致需要洗净设备来洗净，因而增加制程步骤及成本。另外，在摩擦时亦可能会产生其他无法预期的凹痕或刮伤而降低良率，而磨擦所引起的静电间题也容易造成对基板上电路的破坏。此外，配向设备亦会提高生产成本。

发明内容

本发明提出一种配向膜的制造方法，可简化制程并降低生产成本的配向膜的制造方法。

根据本发明的一实施例，提出一种配向膜的形成方法，包括以下步骤。提供一光感材料，光感材料定义一第一像素区及一第二像素区，第一像素区与第二像素区各定义一第一子像素区及一第二子像素区；于一第一次曝光中，以一第一曝光方向光线及一第二曝光方向光线照射光感材料，以于第一像素区的第一子像素区及第二像素区的第二子像素区分别形成不同配向位向的一第一配向部及一第二配向部；于一第二次曝光中，以第一曝光方向光线及第二曝光方向光线照射光感材料，以于第一像素区的第二子像素区及第二像素区的第一子像素区形成不同配向位向的一第三配向部及一第四配向部。

根据本发明的另一实施例，提出一种配向膜的形成方法，包括以下步骤。提供一光感材料，光感材料定义N×M个像素区，N×M个像素区各定义N×M个子像素区；于N×M曝光次数的每一次中，以M个不同曝光方向光线照射光感材料，以于各N×M个像素区的其中一个子像素区形成不同配向位向的多个配向部，其中，N是各M个曝光方向光线的偏振位向的个数。

附图说明

为让本发明的上述目的、特征和优点能更明显易懂，以下结合附图对本发明的具体实施方式作详细说明，其中：

图1、2及3A至4B绘示依照本发明一实施例的配向膜的形成过程图。

图5、6及7A至10B绘示依照本发明另一实施例的配向膜的形成过程图。

主要元件符号说明：

120：光感材料

130：基板

D1：移动方向

L1：第一曝光方向光线

L2：第二曝光方向光线

MA1：第一掩模

MA2：第二掩模

MA3：第三掩模

MA4：第四掩模

MA11、MA21、MA31、MA41：第一曝光单元

MA11a：第一子曝光单元

MA11b：第二子曝光单元

MA12、MA22、MA32、MA42：第二曝光单元

MA11’、MA12’、MA21’、MA22’、MA31’、MA32’、MA41’、MA42’：长条虚线

SPA1：第一像素区

SPA11、SPA21、SPA31、SPA41：第一子像素区

SPA12、SPA22、SPA32、SPA42：第二子像素区

SPA13、SPA23、SPA33、SPA43：第三子像素区

SPA14、SPA24、SPA34、SPA44：第四子像素区

SPA2：第二像素区

SPA3：第三像素区

SPA4：第四像素区

具体实施方式

本发明一实施例中，提供一光感材料，光感材料定义N×M个像素区，N×M个像素区各定义N×M个子像素区。然后，于N×M曝光次数的每一次中，以M个不同曝光方向光线照射光感材料，以于各N×M个像素区的其中一个子像素区形成不同配向位向的N×M个配向部，其中，N是各M个曝光方向光线的偏振位向的数目。如此一来，在N×M曝光次数后，N×M个像素区中每一者的N×M个子像素区分别形成N×M个不同配向位向的配向部，以下进一步举例说明。