[发明专利]配向膜的形成方法有效
申请号: | 201110376308.2 | 申请日: | 2011-11-23 |
公开(公告)号: | CN103135284A | 公开(公告)日: | 2013-06-05 |
发明(设计)人: | 欧耀仁;李汉郎;王建智;曾弘毅 | 申请(专利权)人: | 群康科技(深圳)有限公司;奇美电子股份有限公司 |
主分类号: | G02F1/1337 | 分类号: | G02F1/1337;G03F7/00;G03F7/20 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 骆希聪 |
地址: | 518100 广东省深圳市宝*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 形成 方法 | ||
1.一种配向膜的形成方法,包括:
提供一光感材料,该光感材料定义一第一像素区及一第二像素区,该第一像素区与该第二像素区各定义一第一子像素区及一第二子像素区;
于一第一次曝光中,以一第一曝光方向光线及一第二曝光方向光线照射该光感材料,以于该第一像素区的该第一子像素区及该第二像素区的该第二子像素区分别形成不同配向位向的一第一配向部及一第二配向部;
于一第二次曝光中,以该第一曝光方向光线及该第二曝光方向光线照射该光感材料,以于该第一像素区的该第二子像素区及该第二像素区的该第一子像素区形成不同配向位向的一第三配向部及一第四配向部。
2.如权利要求1所述的形成方法,还包括:
提供一第一掩模及一第二掩模,其中该第一掩模与该第二掩模各具有一第一曝光单元及一第二曝光单元;
于该第一次曝光的该步骤中,该第一曝光方向光线及该第二曝光方向光线分别照射该第一掩模的该第一曝光单元及该第二曝光单元;以及
于该第二次曝光的该步骤中,该第一曝光方向光线及该第二曝光方向光线分别照射该第二掩模的该第一曝光单元及该第二曝光单元。
3.如权利要求2所述的形成方法,还包括:
带动该光感材料沿一移动方向移动,并经过该第一掩模及该第二掩模;
其中,该第一掩模的该第一曝光单元及该第二曝光单元是沿该移动方向间隔一距离,且该第二掩模的该第一曝光单元及该第二曝光单元是沿该移动方向间隔一距离。
4.如权利要求3所述的形成方法,其特征在于,该第一掩模的该第一曝光单元及该第二曝光单元是沿与该移动方向垂直的方向间隔一距离,且该第二掩模的该第一曝光单元及该第二曝光单元是沿与该移动方向垂直的方向间隔一距离。
5.如权利要求1所述的形成方法,其特征在于,该第一配向部与该第二配向部的配向位向相差180度。
6.如权利要求1所述的形成方法,其特征在于,该第三配向部与该第四配向部的配向位向相差180度。
7.一种配向膜的形成方法,包括:
提供一光感材料,该光感材料定义N×M个像素区,该N×M个像素区各定义N×M个子像素区;
于N×M曝光次数的每一次中,以M个不同曝光方向光线照射该光感材料,以于各N×M个像素区的其中一个该子像素区形成不同配向位向的多个配向部,其中,N是各M个曝光方向光线的偏振位向的个数。
8.如权利要求7所述的形成方法,还包括:
提供N×M个掩模,其中该N×M个掩模各具有M曝光单元;
于该N×M曝光次数的每一次中以该M个不同曝光方向光线照射该光感材料的该步骤中,该M个曝光方向光线分别照射该M个曝光单元组。
9.如权利要求8所述的形成方法,还包括:
带动该光感材料沿一移动方向移动,以经过该N×M个掩模;
其中,该M个曝光单元组沿该移动方向是间隔一距离。
10.如权利要求9所述的形成方法,其特征在于,该M个曝光单元组沿与该移动方向垂直的方向间隔一距离。
11.如权利要求8所述的形成方法,其特征在于,该N×M个掩模其中一者的各M曝光单元具有N个子曝光单元,该N×M个子曝光单元对应该N×M个像素区。
12.如权利要求9所述的形成方法,其特征在于,第P个曝光方向光线照射第P个曝光单元的该N个子曝光单元,以形成N个不同配向位向的配向部,其中P为1至M之间的正整数。
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