[发明专利]基板上隔垫物制造方法有效
| 申请号： | 201110366968.2 | 申请日： | 2011-11-17 |
| 公开（公告）号： | CN102681261A | 公开（公告）日： | 2012-09-19 |
| 发明（设计）人： | 舒适;薛建设;赵吉生;李琳;周伟峰 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1339 | 分类号： | G02F1/1339;G03F7/00;G03F7/38;G03F7/004 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 韩国胜;王莹 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 基板上隔垫物 制造 方法 | ||
1.一种基板上隔垫物制造方法，其特征在于，包括以下过程：
在基板上涂布一层光刻胶，放入烤箱烘烤，所述烤箱中设有冷却触点，所述冷却触点的温度低于烘烤温度，冷却触点接触光刻胶，一段时间后将冷却触点移走，继续进行烘烤，光刻胶在与冷却触点接触的位置形成突起；
将基板移出烤箱，对基板上的光刻胶进行无掩膜板的低曝光量曝光和显影，以去除突起以外的光刻胶，基板上保留的突起即为隔垫物。
2.如权利要求1所述的基板上隔垫物制造方法，其特征在于，还包括以下过程：在所述冷却触点移走之后，继续对光刻胶进行烘烤。
3.如权利要求1所述的基板上隔垫物制造方法，其特征在于，还包括以下过程：根据隔垫物厚度要求，采用干刻法降低隔垫物厚度。
4.如权利要求1所述的基板上隔垫物制造方法，其特征在于，所述光刻胶为正性光刻胶。
5.如权利要求1所述的基板上隔垫物制造方法，其特征在于，所述光刻胶的涂布厚度为2.0μm～7.0μm。
6.如权利要求5所述的基板上隔垫物制造方法，其特征在于，所述光刻胶的曝光能量为5mJ/cm2～190mJ/cm2。
7.如权利要求2所述的基板上隔垫物制造方法，其特征在于，所述烤箱的温度为50℃～180℃，所述冷却触点的温度为10℃～110℃；所述冷却触点接触光刻胶的时间为3s～60s；所述光刻胶继续烘烤的时间为10s～180s。
8.如权利要求1所述的基板上隔垫物制造方法，其特征在于，所述冷却触点由触点顶部和触点底部构成，所述触点顶部和触点底部的连接处形成有能阻挡光刻胶升高的台阶。
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