[发明专利]镀膜件及其制造方法无效
申请号: | 201110365225.3 | 申请日: | 2011-11-17 |
公开(公告)号: | CN103114287A | 公开(公告)日: | 2013-05-22 |
发明(设计)人: | 张新倍;蒋焕梧;陈正士;李聪 | 申请(专利权)人: | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
主分类号: | C23C28/04 | 分类号: | C23C28/04;C25D11/04;C25D11/18;C23C14/08;C23C14/10 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 镀膜 及其 制造 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种镀膜件及其制造方法。
背景技术
现有技术,采用阳极氧化处理的方式在铝或铝合金表面形成一阳极氧化膜,在一定程度上可改善铝或铝合金基体的硬度、耐磨性、耐腐蚀性及装饰性,但阳极氧化膜存在表面粗糙、暗哑的缺点。
采用喷涂的方式于阳极氧化膜上喷涂一透明油漆层,可改善阳极氧化处理产品表面的触感,但喷涂过程中容易产生积漆、油漆层厚度不均等不良现象。用真空镀膜方式代替喷涂形成一透明状的真空镀膜层可解决上述技术问题,但由于阳极氧化膜与真空镀膜层之间存在较大的内应力,易于导致膜层发生开裂、剥落等现象。
发明内容
鉴于此,本发明提供一种可解决上述问题的镀膜件。
另外,本发明还提供一种上述镀膜件的制造方法。
一种镀膜件,包括基体、依次形成于基体表面的阳极氧化膜及真空镀膜层,所述阳极氧化膜表面呈不连续状,所述真空镀膜层为二氧化硅层或氧化铝层。
一种镀膜件的制造方法,其包括如下步骤:
提供基体;
通过阳极氧化处理的方式,在该基体的表面形成阳极氧化膜;
对所述阳极氧化膜表面进行盐酸水溶液擦拭处理;
采用真空镀膜法,以硅靶或铝靶为靶材,以氧气为反应气体,在经上述处理后的阳极氧化膜上形成真空镀膜层,该真空镀膜层为二氧化硅层或氧化铝层。
本发明对所述阳极氧化膜进行盐酸水溶液擦拭处理,使所述阳极氧化膜表面呈不连续状,进而可提高所述真空镀膜层与阳极氧化膜之间的结合力,进而避免所述阳极氧化膜与真空镀膜层直接结合而导致真空镀膜层发生开裂、剥落等现象。另外,所述真空镀膜层本身具有良好的硬度及耐磨性,可增强所述镀膜件的硬度及耐磨性。
附图说明
图1是本发明一较佳实施例镀膜件的剖视图;
图2是本发明一较佳实施例真空镀膜机的示意图。
主要元件符号说明
如下具体实施方式将结合上述附图进一步说明本发明。
具体实施方式
请参阅图1,本发明一较佳实施例的镀膜件10包括基体11、依次形成于基体11上的阳极氧化膜13及真空镀膜层15。该镀膜件10可以为电子装置外壳,也可以为钟表外壳、金属卫浴件、建筑用件及汽车零部件。
所述基体11的材质为可为铝、铝合金、镁、镁合金或其它可以进行阳极氧化处理的金属。
所述阳极氧化膜13表面形成有若干凸起131。所述阳极氧化膜13的表面的部分区域形成有氯化铝。
所述真空镀膜层15用以提高所述镀膜件10的硬度及耐磨性。所述真空镀膜层15为二氧化硅(SiO2)层或氧化铝(Al2O3)层。所述真空镀膜层15为无色透明状,其厚度为1~1.8μm。
本发明镀膜件10的制造方法包括以下步骤:
提供基体11,该基体11的材质为可为铝、铝合金、镁、镁合金或其它可以进行阳极氧化处理的金属。
将基体11进行预处理。该预处理包括分别用去离子水和无水乙醇对基体11表面进行擦拭、以及用丙酮溶液对基体11进行超声波清洗等步骤。
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