[发明专利]一种阴极均匀性修正挡板

说明书

技术领域

本发明涉及玻璃制造，特别是，涉及一种阴极均匀性修正挡板。

背景技术

传统的磁控溅射镀膜中使用的阴极挡板多是平板状（如附图1所示），在磁控溅射镀膜过程中，受阴极结构的影响，两端的溅射速率要大于中间部分的溅射速率，由此造成玻璃两端所镀膜层偏厚，膜层均匀性比较差。为解决此问题，通常的做法是将阴极端部的磁场减弱，降低磁控溅射速率，这样做带来的负面影响就是使溅射的效率降低了，有些得不偿失。

发明内容

本发明的目的是提供一种解决磁控溅射阴极两端均匀性差的阴极均匀性修正档板。

为解决上述技术问题，本发明采用如下技术方案：

一种阴极均匀性修正挡板，包括相平行设置的第一挡板本体和第二挡板本体，所述的第一挡板本体与所述的第二挡板本体之间形成溅射区域，所述的第一挡板本体与所述的第二挡板本体相对的侧面的两端分别具有凸棱，所述的溅射区域呈两端缩颈的空间。

其中，所述的凸棱由对应的所述的第一挡板本体或第二挡板本体相对延伸而形成，所述的凸棱的表面与其所在的所述的第一挡板本体或第二挡板本体的表面之间的二面角为钝角。

其中，所述的第一挡板本体与所述的第二挡板本体相对称分布。

本发明的有益效果是：通过在两挡板本体的相对面的两端分别加上凸棱，对端部镀膜进行部分阻挡，有效地解决了镀膜边缘与中部的均匀性差距的问题，并且改进的结构简单、易加工，并且不会降低原有的溅射效率，适合在磁控溅射镀膜领域推广使用。

附图说明

附图1为传统技术中的阴极挡板的结构示意图；

附图2为本发明的阴极均匀性修正档板的结构示意图。

附图中：1、第一挡板本体；2、第二挡板本体；3、溅射区域；4、凸棱。

具体实施方式

下面结合附图所示的实施例对本发明的技术方案作以下详细描述：

如附图2所示，本发明的阴极均匀性修正档板包括相平行设置的第一挡板本体1和第二挡板本体2，第一挡板本体1与第二挡板本体2之间形成溅射区域3，第一挡板本体1与第二挡板本体2相对的侧面的两端分别具有凸棱4，溅射区域3呈两端缩颈的空间，凸棱4由对应的第一挡板本体1或第二挡板本体2相对延伸而形成，凸棱4的表面与其所在的第一挡板本体1或第二挡板本体2的表面之间的二面角为钝角，第一挡板本体1与第二挡板本体2相对称分布。

本发明通过在两挡板本体的相对面的两端分别加上凸棱4，对端部镀膜进行部分阻挡，有效地解决了镀膜边缘与中部的均匀性差距的问题，并且改进的结构简单、易加工，并且不会降低原有的溅射效率，适合在磁控溅射镀膜领域推广使用。

上述实施例只为说明本发明的技术构思及特点，其目的在于让熟悉此项技术的人士能够了解本发明的内容并据以实施，并不能以此限制本发明的保护范围。凡根据本发明精神所作的等效变化或修饰，都应涵盖在本发明的保护范围之内。