[发明专利]功率二极管的器件结构有效

专利信息
申请号: 201110346433.9 申请日: 2011-11-04
公开(公告)号: CN103094356A 公开(公告)日: 2013-05-08
发明(设计)人: 胡晓明 申请(专利权)人: 上海华虹NEC电子有限公司
主分类号: H01L29/861 分类号: H01L29/861;H01L29/872;H01L29/868;H01L29/06
代理公司: 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 代理人: 张骥
地址: 201206 上*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 功率 二极管 器件 结构
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种半导体器件结构,具体涉及一种功率二极管的器件结构。

背景技术

功率二极管器件是不断发展的功率-电子系统的内在驱动力,具有节约能源、动态控制、噪音减少的优点。功率半导体主要应用于对能源与负载之间的能量进行控制,并且应当拥有精度高、速度快和功耗低的特点。

现有的PIN(P+-N--N+)二极管如图1所示,包括元胞101、终端区102,终端区102设置于元胞101的外围;器件的阴极由器件背面引出,器件阴极的上方为终端区102和元胞101的N型衬底10,N型衬底10的上方为N型外延区20;器件的阳极位于N型外延区20的表面,N型外延区20内分布有多块P型重掺杂区40,P型重掺杂区40与N型外延区20间隔交替排列;器件的阳极上方有金属引线60,金属引线60分别通过接触孔50与元胞101区域内的P型重掺杂区40接触;金属引线60、接触孔50、P型重掺杂区40与N型外延区20以及N型衬底10形成PIN功率二极管。

这种PIN二极管在使用过程中,反向偏压时,其I区内的电场成梯形分布,可以承受较大的反向击穿电压;正向开启时,其I区内充满了少数载流子致使电阻下降,可以承受较大的导通电流。但是,开启过程中充满I区的少数载流子,在器件关闭时需要有较长的时间将这些载流子进行释放,这就是通常所说的电流拖尾现象。

由于PIN二极管存在这部分额外的损耗,导致器件不能应用于高端的绿色节能产品中。为解决这一问题,常用的方法是工艺上使用电子伏兆,或对I区进行掺金或铂,以制造缺陷,从而能够在器件关断时利用这些缺陷快速释放少数载流子。但是由于缺陷的存在,会影响器件开启时的导通能力;而使用金或铂重金属,不仅容易污染设备,而且会增加制造成本。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是提供一种功率二极管的器件结构,它可以降低电流拖尾现象。

为解决上述技术问题,本发明功率二极管的器件结构的技术解决方案为:

包括元胞、终端区,终端区设置于元胞的外围;器件的阴极由器件背面引出,器件阴极的上方为终端区和元胞的N型衬底,N型衬底的上方为N型外延区;器件的阳极位于N型外延区的表面,N型外延区内分布有多块P型重掺杂区,P型重掺杂区与N型外延区间隔交替排列;所述器件的阳极上方有金属引线,金属引线分别通过掺杂区接触孔、外延区接触孔与元胞区域内的P型重掺杂区和N型外延区交替并行接触;所述金属引线、掺杂区接触孔、P型重掺杂区与N型外延区以及N型衬底形成PIN功率二极管;所述金属引线、外延区接触孔与N型外延区以及N型衬底形成金属半导体接触的肖特基二极管。

所述P型重掺杂区与N型外延区之间有场氧化膜,场氧化膜的表面与P型重掺杂区的水平方向之间的夹角不大于30度。

所述外延区接触孔的横向尺寸不小于掺杂区接触孔的横向尺寸。

所述元胞区域内的P型重掺杂区的面积比外延区接触孔的面积至少大一个数量级。

所述P型重掺杂区的形状是方形、圆形、矩形、六边形中的一种或几种。

所述外延区接触孔的形状是圆形、方形或者长条形。

所述掺杂区接触孔、外延区接触孔内为钨栓,或者是直接填入的金属。

本发明可以达到的技术效果是:

本发明在器件正向导通时,由于肖特基二极管的开启阈值电压低,能够提高整个器件的开启速度。

本发明在器件反向阻断时,PIN二极管的N型外延区中形成大面积的耗尽区,使肖特基二极管被耗尽区隔离,因此不存在击穿的风险。

本发明在器件开启阶段,N型外延区充满了少数载流子,在关断后通过肖特基二极管快速释放,能够降低电流拖尾现象,降低器件的损耗。

本发明能够实现功率二极管器件的高耐压能力,快速开启,以及反向关断时的快速恢复,降低开关损耗。

附图说明

下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细的说明:

图1是现有技术PIN二极管器件结构的示意图;

图2是本发明功率二极管的器件结构的示意图;

图3是本发明的器件在反向偏压下的阻断原理示意图;

图4、图5是场氧化膜的表面与P型重掺杂区的水平方向之间不同的夹角所形成的耗尽层的示意图。

图中附图标记说明:

101为元胞,                   102为终端区,

10为N型衬底,                 20为N型外延区,

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海华虹NEC电子有限公司,未经上海华虹NEC电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110346433.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top