[发明专利]蚀刻玻璃基板的装置

说明书

交叉引用

本申请要求于2010年10月28日递交于韩国知识产权局的韩国专利申请No.10-2010-0106208的优先权和权益，上述韩国专利申请的全部内容通过引用合并于此。

技术领域

本公开在此涉及一种蚀刻装置。

背景技术

平板显示器包括由二氧化硅形成的玻璃基板。由于玻璃基板是平板显示器中最重的部分，因此为了提供更轻且更纤薄的平板显示器正在进行大量的研究以开发更轻的玻璃基板。

减轻玻璃基板的重量的典型方法可以是减小该玻璃基板的厚度。为此，基板玻璃在蚀刻之后应该是平整的。也就是说，在减小玻璃基板的厚度时玻璃基板的均匀性是重要的，因为如果使用不均匀的玻璃基板则平板显示器可能具有图像质量缺陷。

发明内容

本发明的实施例的一方面致力于一种用于均匀且有效地蚀刻玻璃基板的装置。

本发明的各实施例提供一种用于蚀刻玻璃基板的装置，该装置包括：容器，配置为容纳蚀刻剂；第一板，位于所述容器中，并配置为在该第一板上接收水平放置的玻璃基板；和循环单元，位于所述容器中且面向所述第一板，并配置为在所述第一板的面上产生蚀刻剂的流动。

所述循环单元可以包括：第二板，面向所述第一板；和旋转叶片，位于所述第二板的顶面或底面上。

所述第一板和所述第二板在俯视图中可以具有圆形形状。

所述循环单元可以进一步包括配置为控制所述第二板的驱动单元。所述驱动单元可以配置为调节所述第一板与所述第二板之间的距离以及所述第二板的旋转速度。

用于蚀刻玻璃基板的所述装置可以进一步包括：传感器，位于所述容器的侧壁上并邻近所述第一板，且配置为测量所述玻璃基板的厚度；和控制单元，配置为接收来自所述传感器的信号并向所述驱动单元提供驱动信号。

用于蚀刻玻璃基板的所述装置可以进一步包括连接到所述容器的底面以排出所述蚀刻剂的收集管。从所述玻璃基板蚀刻下来的物质或颗粒可以通过所述蚀刻剂的流动被收集到所述收集管。

用于蚀刻玻璃基板的所述装置可以进一步包括：阀，配置为控制所述蚀刻剂在所述收集管中的流动；过滤器，配置为在所述蚀刻剂通过所述阀之后从所述蚀刻剂中去除所述物质或颗粒；供应管，配置为将所述蚀刻剂供应到所述容器内；和泵，配置为在所述蚀刻剂通过所述过滤器之后将所述蚀刻剂输送到所述供应管。

所述循环单元可以配置为相对于所述第一板水平移动以产生所述蚀刻剂的流动。

所述循环单元可以包括配置为控制主体和连接至所述主体的能水平移动的叶片的操作的驱动单元。所述驱动单元可以配置为调节所述第一板与所述主体之间的距离以及所述主体的水平速度。

所述第一板在俯视图中可以具有矩形形状。

根据本发明的另一个实施例，一种用于蚀刻玻璃基板的装置包括：容器，配置为容纳蚀刻剂；和板，位于所述容器中，并配置为在该板上接收水平放置的玻璃基板。所述板可以配置为被旋转，以引发所述蚀刻剂的流动。

用于蚀刻玻璃基板的所述装置可以进一步包括配置为控制所述板的驱动单元。所述驱动单元可以配置为控制所述板的竖直运动和旋转速度。

用于蚀刻玻璃基板的所述装置可以进一步包括：传感器，位于所述容器的侧壁上并邻近所述板，且配置为测量所述玻璃基板的厚度；和控制单元，配置为接收来自所述传感器的信号并向所述驱动单元提供驱动信号。

根据本发明的又一实施例，一种用于蚀刻玻璃基板的装置包括：容器，配置为容纳蚀刻剂；第一板，位于所述容器中，并配置为在该第一板上接收玻璃基板，所述玻璃基板具有平行于所述第一板的面的主平面；和循环单元，位于所述容器中，并配置为在所述第一板的所述面上产生所述蚀刻剂的流动。

附图说明

附图被包含以提供对本发明的各实施例的进一步理解，且附图被合并入说明书中并组成该说明书的一部分。附图表示本发明的各示例性实施例，并与说明书一起用于解释本发明的原理。在所述附图中：

图1为表示根据本发明第一实施例的用于蚀刻玻璃基板的装置的视图；

图2为表示根据本发明第一实施例的玻璃基板蚀刻装置的容器和板的详细视图；

图3为表示根据本发明第一实施例的玻璃基板蚀刻装置的板和旋转叶片的详细视图；

图4为表示根据本发明第二实施例的用于蚀刻玻璃基板的装置的视图；

图5为表示根据本发明第三实施例的用于蚀刻玻璃基板的装置的视图；

图6为表示根据本发明第三实施例的玻璃基板蚀刻装置的容器、板和循环单元的详细视图；