[发明专利]蚀刻玻璃基板的装置

权利要求书

1.一种用于蚀刻玻璃基板的装置，该装置包括：

容器，配置为容纳蚀刻剂；

第一板，位于所述容器中，并配置为在该第一板上接收水平放置的玻璃基板；和

循环单元，位于所述容器中且面向所述第一板，并配置为在所述第一板的面上产生所述蚀刻剂的流动。

2.如权利要求1所述的用于蚀刻玻璃基板的装置，其中，所述循环单元包括：

第二板，面向所述第一板；和

旋转叶片，位于所述第二板的顶面或底面上。

3.如权利要求2所述的用于蚀刻玻璃基板的装置，其中，所述第一板和所述第二板在俯视图中具有圆形形状。

4.如权利要求2所述的用于蚀刻玻璃基板的装置，其中，所述循环单元进一步包括配置为控制所述第二板的驱动单元，

其中所述驱动单元配置为调节所述第一板与所述第二板之间的距离以及所述第二板的旋转速度。

5.如权利要求4所述的用于蚀刻玻璃基板的装置，进一步包括：

传感器，位于所述容器的侧壁上并邻近所述第一板，且配置为测量所述玻璃基板的厚度；和

控制单元，配置为接收来自所述传感器的信号并向所述驱动单元提供驱动信号。

6.如权利要求1所述的用于蚀刻玻璃基板的装置，进一步包括连接到所述容器的底面以排出所述蚀刻剂的收集管；

其中从所述玻璃基板蚀刻下来的物质或颗粒通过所述蚀刻剂的流动被收集到所述收集管。

7.如权利要求6所述的用于蚀刻玻璃基板的装置，进一步包括：

阀，配置为控制所述蚀刻剂在所述收集管中的流动；

过滤器，配置为在所述蚀刻剂通过所述阀之后从所述蚀刻剂中去除所述物质或颗粒；

供应管，配置为将所述蚀刻剂供应到所述容器内；和

泵，配置为在所述蚀刻剂通过所述过滤器之后将所述蚀刻剂输送到所述供应管。

8.如权利要求1所述的用于蚀刻玻璃基板的装置，其中，所述循环单元配置为相对于所述第一板水平移动以产生所述蚀刻剂的流动。

9.如权利要求8所述的用于蚀刻玻璃基板的装置，其中，所述循环单元包括主体和连接至所述主体的能水平移动的叶片。

10.如权利要求9所述的用于蚀刻玻璃基板的装置，其中，所述循环单元进一步包括：

驱动单元，配置为控制所述主体和连接至所述主体的能水平移动的所述叶片的操作，

其中所述驱动单元配置为调节所述第一板与所述主体之间的距离以及所述主体的水平移动速度。

11.如权利要求10所述的用于蚀刻玻璃基板的装置，其中，所述第一板在俯视图中具有矩形形状。

12.一种用于蚀刻玻璃基板的装置，该装置包括：

容器，配置为容纳蚀刻剂；和

板，位于所述容器中，并配置为在该板上接收水平放置的玻璃基板，

其中所述板配置为被旋转，以引发所述蚀刻剂的流动。

13.如权利要求12所述的用于蚀刻玻璃基板的装置，进一步包括配置为控制所述板的驱动单元，

其中所述驱动单元配置为控制所述板的竖直运动和旋转速度。

14.如权利要求13所述的用于蚀刻玻璃基板的装置，进一步包括：

传感器，位于所述容器的侧壁上并邻近所述板，且配置为测量所述玻璃基板的厚度；和

控制单元，配置为接收来自所述传感器的信号并向所述驱动单元提供驱动信号。

15.一种用于蚀刻玻璃基板的装置，该装置包括：

容器，配置为容纳蚀刻剂；

第一板，位于所述容器中，并配置为在该第一板上接收玻璃基板，所述玻璃基板具有平行于所述第一板的面的主平面；和

循环单元，位于所述容器中，并配置为在所述第一板的所述面上产生所述蚀刻剂的流动。