[发明专利]导线的修补方法以及显示面板的修补方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种修补方法以及显示面板的修补方法。

背景技术

平面显示器技术已趋成熟，但显示面板的组成元件，如主动元件阵列基板，在制造过程之中难免会产生一些瑕疵(defect)。例如，主动元件阵列基板上的扫描线与数据线因其长度很长，故容易发生断线的情形。当扫描线与数据线发生断线时，会导致一部分的像素无法动作(线缺陷)，故必须设法修补断线。此外，若仅依赖改善工艺技术来实现零瑕疵率是非常困难的，因此，显示面板的瑕疵修补技术就变得相当重要。在现有技术中，显示面板的瑕疵修补通常采用激光熔接(laser welding)搭配激光切割(laser cutting)等方式来进行。

一般来说，上述采用激光熔接以及激光切割技术来进行断线的修补的方式，是先在显示面板上预先形成修补线。当显示面板制造完成之后，利用检测工具检测显示面板上是否具有断线缺陷。倘若发现特定信号现有断线缺陷时，便利用位于具有缺陷的信号线附近的修补线来进行修补，也就是通过激光熔接方式使修补线与具有缺陷的信号线熔接在一起，再利用激光切割方式切割不需使用到的修补线。

然而，上述修补方法因必须先在显示面板上形成修补线，且当需要进行修补时需采用激光熔接以及激光切割技术。因此，传统对于显示面板的断线的修补方法较为繁琐，且修补线位置的设置也会受到许多限制。

发明内容

本发明所要解决的技术问题在于提供一种导线的修补方法以及显示面板的修补方法，其可以不需预先于显示面板中形成修补线，且不需采用传统激光熔接以及激光切割程序，即可以达到修补导线的目的。

本发明提出一种导线的修补方法，其包括提供导线，其中导线具有断线缺陷。在断线缺陷处涂布纳米金属溶液，其中，纳米金属溶液包括有机溶剂以及均匀分散于有机溶剂中的金属纳米粒子。利用激光照射程序照射断线缺陷处，以使纳米金属溶液硬化以形成修补部。

其中，该纳米金属溶液的该纳米金属颗粒包括纳米金颗粒或是纳米银颗粒。

其中，该纳米金属溶液的该纳米金属颗粒的颗粒尺寸为2～3纳米。

其中，该纳米金属溶液的该有机溶剂包括己烷、苯或是甲苯。

其中，该激光照射程序的温度介于摄氏350至400度。

本发明提出一种显示面板的修补方法，其包括提供显示面板，所述显示面板包括多条信号线，其中所述信号线中的至少一条信号线具有断线缺陷。在断线缺陷处涂布纳米金属溶液，其中纳米金属溶液包括有机溶剂以及均匀分散于有机溶剂中的金属纳米粒子。利用激光照射程序照射断线缺陷处，以使纳米金属溶液硬化以形成修补部。

其中，该纳米金属溶液的该纳米金属颗粒包括纳米金颗粒或是纳米银颗粒。

其中，该纳米金属溶液的该纳米金属颗粒的颗粒尺寸为2～3纳米。

其中，该纳米金属溶液的该有机溶剂包括己烷、苯或是甲苯。

其中，该激光照射程序的温度介于摄氏350至400度。

基于上述，本发明在导线的断线缺陷处涂布纳米金属颗粒，并且利用激光照射程序以使得纳米金属溶液硬化以形成修补部，即可使得导线的断线缺陷获得修补。由于本发明不需事先在显示面板上设置修补线路，因而本发明的修补方法相较于传统方法较为简单且便利。

以下结合附图和具体实施例对本发明进行详细描述，但不作为对本发明的限定。

附图说明

图1A至图1C是根据本发明一实施例的导线的修补方法的流程示意图。

图2是根据本发明一实施例的显示面板的示意图。

图3A至图3C是根据本发明一实施例的显示面板的修补方法的流程示意图。

其中，附图标记：

L：导线

D：断线缺陷

LR：激光

S：纳米金属溶液

O：有机溶剂

N：纳米金属颗粒

R：修补部

100：显示面板

A：显示区

B：非显示区

SL1～SLn：扫描线

DL1～DLn：数据线

P：像素结构

PE：像素电极

T：主动元件

L1-1～L1-n、L2-1～L2-n：引线

具体实施方式