[发明专利]导线的修补方法以及显示面板的修补方法无效
| 申请号： | 201110330076.7 | 申请日： | 2011-10-24 |
| 公开（公告）号： | CN102368478A | 公开（公告）日： | 2012-03-07 |
| 发明（设计）人： | 陈志宏;黄柏辅;张俊德 | 申请（专利权）人： | 友达光电股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/768 | 分类号： | H01L21/768;H01L21/77 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 梁挥;鲍俊萍 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 导线 修补 方法 以及 显示 面板 | ||
1.一种导线的修补方法，其特征在于，包括：
提供一导线，其中该导线具有一断线缺陷；
在该断线缺陷处涂布一纳米金属溶液，其中该纳米金属溶液包括一有机溶剂以及均匀分散于该有机溶剂中的金属纳米粒子；以及
利用一激光照射程序照射该断线缺陷处，以使该纳米金属溶液硬化以形成一修补部。
2.根据权利要求1所述的导线的修补方法，其特征在于，该纳米金属溶液的该纳米金属颗粒包括纳米金颗粒或是纳米银颗粒。
3.根据权利要求1所述的导线的修补方法，其特征在于，该纳米金属溶液的该纳米金属颗粒的颗粒尺寸为2～3纳米。
4.根据权利要求1所述的导线的修补方法，其特征在于，该纳米金属溶液的该有机溶剂包括己烷、苯或是甲苯。
5.根据权利要求1所述的导线的修补方法，其特征在于，该激光照射程序的温度介于摄氏350至400度。
6.一种显示面板的修补方法，其特征在于，包括：
提供一显示面板，该显示面板包括多条信号线，其中该些信号线中的至少一条信号线具有一断线缺陷；
在该断线缺陷处涂布一纳米金属溶液，其中该纳米金属溶液包括一有机溶剂以及均匀分散于该有机溶剂中的金属纳米粒子；以及
利用一激光照射程序照射该断线缺陷处，以使该纳米金属溶液硬化以形成一修补部。
7.根据权利要求6所述的显示面板的修补方法，其特征在于，该纳米金属溶液的该纳米金属颗粒包括纳米金颗粒或是纳米银颗粒。
8.根据权利要求6所述的显示面板的修补方法，其特征在于，该纳米金属溶液的该纳米金属颗粒的颗粒尺寸为2～3纳米。
9.根据权利要求6所述的显示面板的修补方法，其特征在于，该纳米金属溶液的该有机溶剂包括己烷、苯或是甲苯。
10.根据权利要求6所述的显示面板的修补方法，其特征在于，该激光照射程序的温度介于摄氏350至400度。
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H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
