[发明专利]薄膜沉积设备以及掩模单元和坩埚单元

说明书

本申请要求于2010年10月18日提交到韩国知识产权局的第10-2010-0101470号韩国专利申请和于2011年4月8日提交到韩国知识产权局的第10-2011-0032838号韩国专利申请的权益，两项韩国专利申请的公开通过引用全部包含于此。

技术领域

本发明实施例的方面涉及薄膜沉积设备，更具体地讲，涉及用于执行连续沉积的薄膜沉积设备以及包括在薄膜沉积设备中的掩模单元和坩埚单元。

背景技术

为了制造例如有机发光显示装置的诸如薄膜晶体管(TFT)的薄膜，通常使用沉积设备，在沉积设备中，蒸气从沉积源产生并被沉积到靶材(例如基底)的表面。

在一般的薄膜沉积设备中，将靶材安装在室(室中装载有沉积源)中并执行沉积。在完成沉积之后，将沉积靶材从室中提取出，然后将另一靶材安装在室中。这样，由于在装载和卸载靶材的过程中需要停止沉积，所以会降低沉积效率。此外，在坩埚的沉积源被完全消耗时，为了用新的坩埚更换该坩埚，需要再次停止沉积，因此操作速度明显降低。

因此，需要克服这些缺点的薄膜沉积设备。

发明内容

根据本发明实施例的方面，薄膜沉积设备执行连续沉积，掩模单元和坩埚单元包括在薄膜沉积设备中。

根据本发明的实施例，薄膜沉积设备包括：基底移动单元，被构造成移动作为沉积靶材的基底；掩模单元，被构造成选择地将沉积源的蒸气向基底传送；以及坩埚单元，包括容纳沉积源并沿穿过掩模单元的循环路径行进的多个坩埚。

掩模单元可以具有连续圆周形状。

基底移动单元可以包括：夹持件，被构造成支撑基底并与掩模单元一起移动；以及导轨，用来支撑夹持件沿导轨滑动。

掩模单元可以包括：掩模构件，包括其中形成有掩模图案的主体，其中，主体的至少一部分被构造成紧密地设置到基底；驱动器，用于移动掩模构件；以及功率传输构件，被构造成将驱动器的功率传输至掩模构件。

掩模构件的主体可以为具有腔的圆柱形构件。

功率传输构件可以包括具有腔的环形构件，掩模构件可以插入在与环形构件的内壁相邻的腔中，用于传输驱动器的功率的齿轮单元可以布置在环形构件的外壁上。

掩模构件的主体可以包括多个板构件，功率传输构件可以包括多个环形构件和在环形构件的侧壁上的多个支撑件，所述多个板构件可以彼此连接并且所述多个板构件被所述多个支撑件支撑，用于传输驱动器的功率的齿轮单元可以布置在环形构件的外壁上。

驱动器可以包括：摇轮，与功率传输构件齿轮结合；以及电机，连接到摇轮，用来旋转摇轮。

掩模构件可以弹性地接触到基底以增大与基底的接触面积。

坩埚单元可以包括：循环轨，形成循环路径；多个坩埚，用于容纳沉积源并安装在循环轨上；坩埚移动单元，被构造成沿循环轨移动所述多个坩埚；坩埚填充单元，用来将所述沉积源填充在所述多个坩埚中；以及坩埚加热单元，被构造成加热所述多个坩埚以产生沉积源的蒸气。

坩埚单元还可以包括用来支撑在循环轨上的所述多个坩埚的多个球轴承。

坩埚单元还可以包括在循环轨上并被构造成将所述多个坩埚推向循环轨的壁的弹簧。

坩埚移动单元可以包括被构造成沿循环路径的方向推动所述多个坩埚的旋转移动轮。

坩埚填充单元可以包括：注入罐，沉积源装在注入罐中；以及注入喷嘴，用于将装在注入罐中的沉积源提供给在循环轨上的所述多个坩埚。

坩埚加热单元可以包括：加热线，嵌在所述多个坩埚中；功率源，用于将电压施加到加热线；以及接触垫，位于所述多个坩埚上以将功率源和加热线彼此连接。

坩埚单元还可以包括在接触垫和功率源之间的球轴承。

多个接触垫可以分别设置在所述多个坩埚中，与所述多个接触垫对应的多个功率源可以被分别地设置以选择地施加电压。

所述薄膜沉积设备还可以包括遮蔽构件，以将沉积源的蒸气导向基底的沉积位置。

遮蔽构件可以安装在掩模单元内的坩埚单元的上部。

遮蔽构件可以固定到掩模单元并与掩模单元一起旋转。

掩模单元可以包括多个掩模单元，坩埚单元可以包括多个坩埚单元，并且所述多个掩模单元和所述多个坩埚单元可以与单个基底移动单元对应。

所述多个掩模单元和所述多个坩埚单元可以被设置成沉积沉积源的各个颜色。

所述薄膜沉积设备还可以包括用于除去附着到掩模单元的沉积源的残留物的掩模洗涤单元。