[发明专利]薄膜沉积设备以及掩模单元和坩埚单元

权利要求书

1.一种薄膜沉积设备，所述薄膜沉积设备包括：

基底移动单元，被构造成移动作为沉积靶材的基底；

掩模单元，被构造成选择地将沉积源的蒸气向基底传送；以及

坩埚单元，包括容纳沉积源并沿穿过掩模单元的循环路径行进的多个坩埚。

2.如权利要求1所述的薄膜沉积设备，其中，掩模单元具有连续圆周形状。

3.如权利要求1所述的薄膜沉积设备，其中，基底移动单元包括：

夹持件，被构造成支撑基底并与掩模单元一起移动；以及

导轨，用来支撑夹持件沿导轨滑动。

4.如权利要求1所述的薄膜沉积设备，其中，掩模单元包括：

掩模构件，包括其中形成有掩模图案的主体，其中，主体的至少一部分被构造成紧密地设置到基底；

驱动器，用于移动掩模构件；以及

功率传输构件，被构造成将驱动器的功率传输至掩模构件。

5.如权利要求4所述的薄膜沉积设备，其中，掩模构件的主体为具有腔的圆柱形构件。

6.如权利要求5所述的薄膜沉积设备，

其中，功率传输构件包括具有腔的环形构件，

其中，掩模构件插入在与环形构件的内壁相邻的腔中，以及

其中，用于传输驱动器的功率的齿轮单元布置在环形构件的外壁上。

7.如权利要求4所述的薄膜沉积设备，

其中，掩模构件的主体包括多个板构件，

其中，功率传输构件包括多个环形构件和在环形构件的侧壁上的多个支撑件，

其中，所述多个板构件彼此连接并且所述多个板构件被所述多个支撑件支撑，以及

其中，用于传输驱动器的功率的齿轮单元布置在环形构件的外壁上。

8.如权利要求4所述的薄膜沉积设备，其中，驱动器包括：

摇轮，与功率传输构件齿轮结合；以及

电机，连接到摇轮，用来旋转摇轮。

9.如权利要求4所述的薄膜沉积设备，其中，掩模构件弹性地接触到基底以增大与基底的接触面积。

10.如权利要求1所述的薄膜沉积设备，其中，坩埚单元包括：

循环轨，形成循环路径；

多个坩埚，用于容纳沉积源并安装在循环轨上；

坩埚移动单元，被构造成沿循环轨移动所述多个坩埚；

坩埚填充单元，用来将所述沉积源填充在所述多个坩埚中；以及

坩埚加热单元，被构造成加热所述多个坩埚以产生沉积源的蒸气。

11.如权利要求10所述的薄膜沉积设备，其中，坩埚单元还包括用来支撑在循环轨上的所述多个坩埚的多个球轴承。

12.如权利要求10所述的薄膜沉积设备，其中，坩埚单元还包括在循环轨上并被构造成将所述多个坩埚推向循环轨的壁的弹簧。

13.如权利要求10所述的薄膜沉积设备，其中，坩埚移动单元包括被构造成沿循环路径的方向推动所述多个坩埚的旋转移动轮。

14.如权利要求10所述的薄膜沉积设备，其中，坩埚填充单元包括：

注入罐，沉积源装在注入罐中；以及

注入喷嘴，用于将装在注入罐中的沉积源提供给在循环轨上的所述多个坩埚。

15.如权利要求10所述的薄膜沉积设备，其中，坩埚加热单元包括：

加热线，嵌在所述多个坩埚中；

功率源，用于将电压施加到加热线；以及

接触垫，位于所述多个坩埚上以将功率源和加热线彼此连接。

16.如权利要求15所述的薄膜沉积设备，其中，坩埚单元还包括在接触垫和功率源之间的球轴承。

17.如权利要求15所述的薄膜沉积设备，

其中，多个接触垫分别设置在所述多个坩埚中，以及

其中，与所述多个接触垫对应的多个功率源被分别地设置以选择地施加电压。