[发明专利]触摸面板的制造方法及触摸面板无效
| 申请号： | 201110319175.5 | 申请日： | 2011-10-14 |
| 公开（公告）号： | CN102455822A | 公开（公告）日： | 2012-05-16 |
| 发明（设计）人： | 小林节郎;关口慎司;三岛康之 | 申请（专利权）人： | 株式会社日立显示器;松下液晶显示器株式会社 |
| 主分类号： | G06F3/041 | 分类号： | G06F3/041 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 杨宏军 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 触摸 面板 制造 方法 | ||
1.一种触摸面板的制造方法，其特征在于，包括下述工序：
准备含有硅烷偶联剂的溶液的工序；
在表面上具有羟基的第一基板的表面上涂布所述溶液的工序；
使所述第一基板的表面与所述硅烷偶联剂化学结合，形成结构中具有氧化硅骨架和有机官能团的凸部的工序；和
与所述第一基板隔着间隔设置与所述第一基板中形成有所述凸部的面相对的第二基板的工序。
2.如权利要求1所述的触摸面板的制造方法，其特征在于，
所述第一基板为玻璃基板。
3.如权利要求1所述的触摸面板的制造方法，其特征在于，
所述溶液中含有0.1～0.01wt％的所述硅烷偶联剂。
4.如权利要求1所述的触摸面板的制造方法，其特征在于，
所述第一基板具有由多个配线线路构成的第一电极及第二电极；
所述第二基板在与所述第一基板相对的面上具有电介质膜。
5.如权利要求4所述的触摸面板的制造方法，其特征在于，还包括下述工序：
在所述电介质膜的表面上涂布所述溶液的工序；和
使所述电介质膜的表面与所述硅烷偶联剂化学结合，形成结构中具有氧化硅骨架和有机官能团的凸部的工序。
6.如权利要求4所述的触摸面板的制造方法，其特征在于，
所述电介质膜的电阻值为106～1012Ω·cm。
7.如权利要求1所述的触摸面板的制造方法，其特征在于，
所述第一基板具有形成于与所述第二基板相对的面上的由多个配线线路构成的第一导电膜；
所述第二基板具有形成于与所述第一基板相对的面上的第二导电膜；
并且，所述方法还包括下述工序：
在所述第二基板的表面上涂布所述溶液的工序；和
使所述第二基板的表面与所述硅烷偶联剂化学结合，形成结构中具有氧化硅骨架和有机官能团的凸部的工序。
8.一种触摸面板，其特征在于，包括：
在表面具有羟基的第一基板；和
与所述第一基板隔着间隔相对的第二基板，
其中，在所述第一基板的与所述第二基板相对的面的表面上具有凸部，所述凸部是通过与硅烷偶联剂化学结合形成的，且结构中具有氧化硅骨架和有机官能团。
9.如权利要求8所述的触摸面板，其特征在于，
所述第一基板为玻璃基板。
10.如权利要求8所述的触摸面板，其特征在于，
所述第一基板具有由多个配线线路构成的第一电极及第二电极；
所述第二基板在与所述第一基板相对的面上具有电介质膜。
11.如权利要求8所述的触摸面板，其特征在于，
所述第一基板具有形成于与所述第二基板相对的面上的由多个配线线路构成的第一导电膜；
所述第二基板具有形成于与所述第一基板相对的面上的第二导电膜。
12.如权利要求10所述的触摸面板，其特征在于，
所述电介质膜的电阻值为106～1012Ω·cm。
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