[发明专利]光学元件及其制造方法

说明书

本申请是申请日为2008年6月9日、申请号为200880020668.5、发明 名称为光学元件及其制造方法的申请的分案申请。

技术领域

本发明涉及例如CD或DVD的光拾取用光学元件及其制造方法。

背景技术

例如，在以下的专利文献1中公开了在光拾取用光学元件的凸部(峰 部)表面以及凹部(谷部)表面上形成有反射防止结构的发明。

以往，如专利文献1的[0003]栏中所述，在光学元件上形成介电膜从 而形成反射防止涂层，但在凹部底面尤其难于使上述介电膜形成规定膜厚， 在专利文献1中，如专利文献1的图8所示，在凸部(峰部)的上表面以 及凹部(谷部)的底面涂敷抗蚀剂，利用例如电子束(EB)曝光，在上述 抗蚀剂上形成规定图案，然后通过实施蚀刻，在上述凸部上表面以及凹部 底面上形成纳米结构的反射防止结构(专利文献1的[0029]栏～[0032]栏)。

专利文献1：日本特开2006-185562公报

专利文献2：日本特开2003-75602号公报

专利文献3；日本特开2003-315521号公报

但是，为实现光拾取设备的小型化以及高分辨率化，需要有按照每个 波长具有良好对比度的衍射光栅，为了以特定波长得到高衍射效率，优选 使衍射图案中的上述凸部与凹部之间的阶梯差变大。

但是，在现有的技术中，对于上述凸部与凹部之间的阶梯差为超过1μm 的深槽结构，不能够在凸部上表面以及凹部底面的双方上都适当地形成反 射防止结构。而且，在上述专利文献中没有公开针对这样的深槽结构适当 地形成反射防止结构的具体的制法。

另外，在利用铸模制造具备上述深槽结构的衍射图案的成形品时，需 要使上述凸部上表面与上述凹部底面之间的侧面形成为倾斜面，来提高分 型性，在上述专利文献中没有公开具备上述倾斜面的光学元件的优选反射 防止结构，另外，当然也没有公开其制造方法。

另外，在上述专利文献中没有公开对于曲率半径小于10mm的透镜而 言优选的反射防止结构，另外，当然也没有公开其制造方法。

发明内容

因此，本发明用于解决上述现有的课题，其目的在于提供一种光学元 件及其制造方法，尤其对于1.5μm以上的深槽的衍射图案，或者具备高度 为50μm以上且曲率半径小于10mm的陡峭突出的曲面状的凸部，能够适 当地提高反射防止效果。

本发明的光学元件，其特征在于，在表面形成有凹凸形状的衍射图案， 上述衍射图案的凸部和凹部之间的阶梯差为1.5μm以上，位于上述凸部的 上表面和上述凹部的底面之间的侧面至少在接近上述底面的部分，具有上 述凸部的宽度尺寸朝向上述凹部的底面方向逐渐变宽的倾斜面，在上述凸 部的上表面、上述凹部的底面以及上述倾斜面的表面形成有微小凹凸形状 的反射防止结构。

在本发明的光学元件中，由于至少在接近上述凹部底面的部分上设置 用于提高分型性的倾斜面，所以能够高精度地形成1.5μm以上的深槽的衍 射图案，并且还在凸部上表面、凹部底面以及上述倾斜面形成有上述反射 防止结构，因此能够进一步适当地提高反射防止效果，从而能够适当地提 高衍射光栅的性能。

或者，在本发明中，形成有表面突出为曲面状的凸部，从上述凸部的 底部至上述凸部的顶点的高度为50μm以上，并且曲率半径小于10mm，在 上述曲面状的凸部表面形成有微小凹凸形状的反射防止结构。

在上述那样的突出为曲面状的凸部表面上也能够适当地形成反射防止 结构，从而能够适当地提高反射防止效果。

在本发明中，在上述微小凹凸形状中的微小凸部的间距为250nm以下 时，能够更加适当地提高反射防止效果，是优选的。

本发明的光学元件的制造方法的特征在于具有以下工序，即，

(a)在基板表面形成凹凸形状的衍射图案，此时使上述衍射图案的凸 部和凹部之间的阶梯差形成为1.5μm以上的工序；

(b)从上述凸部的上表面至上述凹部的底面蒸镀抗蚀剂(rasist)的工 序；

(c)沿着上述凸部的上表面至上述凹部的底面的阶梯形状，驱动进行 电子束曝光时的电子枪进行曝光，从而在上述抗蚀剂上形成微小凹凸形状 的反射防止结构的图案的工序；

(d)对没有被上述抗蚀剂覆盖的上述基板表面进行蚀刻，在上述凸部 的上表面以及上述凹部的底面形成上述反射防止结构的工序；以及