[发明专利]光学元件及其制造方法有效
| 申请号： | 201110317164.3 | 申请日： | 2008-06-09 |
| 公开（公告）号： | CN102360092A | 公开（公告）日： | 2012-02-22 |
| 发明（设计）人： | 酒井修;古山义幸 | 申请（专利权）人： | 阿尔卑斯电气株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18;G03F7/00 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 杨谦;胡建新 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光学 元件 及其 制造 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种光学元件的制造方法，其特征在于，包括：
(f)在基板表面形成突出为曲面状的凸部，此时形成为从上述凸部的 底部至上述凸部的顶点的高度为50μm以上且曲率半径小于10mm的工序；
(g)在上述曲面状的凸部表面上蒸镀抗蚀剂的工序；
(h)沿着上述凸部表面的曲面形状驱动进行电子束曝光时的电子枪进 行曝光，在上述抗蚀剂上形成由微小凹凸形状构成的反射防止结构的图案 的工序；
(i)对没有被上述抗蚀剂覆盖的上述凸部表面进行蚀刻，在上述凸部 表面上形成上述反射防止结构的工序；以及
(j)除去上述抗蚀剂的工序；
在上述(h)工序时，将对形成在上述凸部表面的底部侧的抗蚀剂进行 曝光的曝光宽度设定为比对形成在上述凸部表面的顶点侧的抗蚀剂进行曝 光的曝光宽度窄。
2.根据权利要求1所述的光学元件的制造方法，其特征在于，
将经上述(f)工序至上述(j)工序形成的基板作为母模，利用上述基 板形成铸模，利用上述铸模在光学元件材料的表面上转印曲面状的凸部以 及上述反射防止结构。
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