[发明专利]一种有机发光显示面板及其制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及有机发光显示装置(OLED，Organic Light-Emitting Display)技术领域，具体涉及一种有机发光显示面板及其制造方法。

背景技术

有机发光显示装置以其简单的架构，极佳的工作温度和反应速度、鲜明的色彩对比及无视角限制等优势，在显示器市场上得到日益重视。

现有技术中，有机发光显示装置的有机发光层结构通常是采用掩模板在衬底上直接蒸发形成的方式制备。由于掩模蒸发过程中存在着掩模板精度低、对位困难等缺点，其良品率较低，并且由于无法精确控制蒸发区域，因而无法实现更小面积的有机发光层结构，无法满足目前迅速发展的有机发光显示产业化的要求。

因此，迫切需要一种制造方法，能够实现有机发光层的精确制备，以提高产品良品率。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是提供一种有机发光显示面板及其制造方法，用以实现有机发光层的精确制备，提高产品良品率。

为解决上述技术问题，本发明提供方案如下：

一种有机发光显示面板的制造方法，包括：

在衬底上形成绝缘层，所述衬底上形成有第一电极层，所述第一电极层包括间隔形成的多个第一电极；

通过光刻工艺，刻蚀掉第一电极上的绝缘层，以形成亚像素沉积区域的图形，并在所述亚像素沉积区域形成对应颜色的有机发光层，以及在所述绝缘层和有机发光层上形成第二电极层。

优选地，上述的制造方法中，所述通过光刻工艺，刻蚀掉第一电极上的绝缘层，以形成亚像素沉积区域，并在所述亚像素沉积区域形成对应颜色的有机发光层，以及在所述绝缘层和有机发光层上形成第二电极层，包括：

针对每种颜色的有机发光层，均依次执行以下处理

通过一次光刻工艺，刻蚀掉该颜色对应的第一电极之上的所有层结构，以形成包括该颜色对应的亚像素沉积区域的图形；

沉积该颜色的有机发光层；

刻蚀去除沉积在该颜色对应的亚像素沉积区域之外的该颜色的有机发光层；

沉积一层第二电极层的材料。

优选地，上述的制造方法中，在所述沉积该颜色的有机发光层和所述沉积一层第二电极层的材料之间，还包括：

刻蚀去除沉积在该颜色对应的亚像素沉积区域之外的该颜色的有机发光层。

优选地，上述的制造方法中，

沉积在该颜色对应的亚像素沉积区域中的该颜色的有机发光层的厚度，大于沉积在该颜色对应的亚像素沉积区域之外的该颜色的有机发光层的厚度；

所述刻蚀去除沉积在该颜色对应的亚像素沉积区域之外的该颜色的有机发光层，包括：

通过控制刻蚀速度，使得沉积在该颜色对应的亚像素沉积区域之外的该颜色的有机发光层被完全刻蚀掉，而沉积在该颜色对应的亚像素沉积区域的该颜色的有机发光层被部分刻蚀掉。

优选地，上述的制造方法中，所述刻蚀去除沉积在该颜色对应的亚像素沉积区域之外的该颜色的有机发光层，包括：

通过一次光刻工艺，刻蚀掉沉积在该颜色对应的亚像素沉积区域之外的该颜色的有机发光层。

优选地，上述的制造方法中，

所述通过光刻工艺，刻蚀掉第一电极上的绝缘层，以形成亚像素沉积区域，并在所述亚像素沉积区域形成对应颜色的有机发光层，包括：

通过一次光刻工艺，刻蚀掉所有第一电极上的绝缘层，以形成包括所有亚像素沉积区域的图形；

针对每种颜色的有机发光层，均依次执行以下处理，以最终在所有亚像素沉积区域沉积对应颜色的有机发光层：沉积该颜色的有机发光层；通过一次光刻工艺，刻蚀去除沉积在该颜色对应的亚像素沉积区域之外的该颜色的有机发光层。

优选地，上述的制造方法中，所述通过一次光刻工艺，刻蚀掉所有第一电极上的绝缘层，以形成包括所有亚像素沉积区域的图形，包括：

在绝缘层上涂敷一层光刻胶；

对光刻胶进行曝光，使光刻胶形成光刻胶保留区域和光刻胶未保留区域，其中，光刻胶未保留区域对应于所有的亚像素沉积区域，光刻胶保留区域对应于除所有的亚像素沉积区域以外的区域；

进行显影处理，去除光刻胶未保留区域的光刻胶，而保留光刻胶保留区域的光刻胶；

刻蚀掉光刻胶未保留区域的绝缘层，形成包括所有亚像素沉积区域的图形；

剥离剩余的光刻胶。

优选地，上述的制造方法中，

所述有机发光层的颜色包括红色、蓝色和绿色；其中：

红色的有机发光层包括：空穴传输层、红光发光层和电子传输层；