[发明专利]一种有机发光显示面板及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201110315177.7 申请日: 2011-10-17
公开(公告)号: CN102709487A 公开(公告)日: 2012-10-03
发明(设计)人: 李延钊;王刚;孙力 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L51/56 分类号: H01L51/56;H01L51/50
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 黄灿;姜精斌
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 有机 发光 显示 面板 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种有机发光显示面板的制造方法,其特征在于,包括:

在衬底上形成绝缘层,所述衬底上形成有第一电极层,所述第一电极层包括间隔形成的多个第一电极;

通过光刻工艺,刻蚀掉第一电极上的绝缘层,以形成亚像素沉积区域的图形,并在所述亚像素沉积区域形成对应颜色的有机发光层,以及在所述绝缘层和有机发光层上形成第二电极层。

2.如权利要求1所述的制造方法,其特征在于,所述通过光刻工艺,刻蚀掉第一电极上的绝缘层,以形成亚像素沉积区域,并在所述亚像素沉积区域形成对应颜色的有机发光层,以及在所述绝缘层和有机发光层上形成第二电极层,包括:

针对每种颜色的有机发光层,均依次执行以下处理

通过一次光刻工艺,刻蚀掉该颜色对应的第一电极之上的所有层结构,以形成包括该颜色对应的亚像素沉积区域的图形;

沉积该颜色的有机发光层;

刻蚀去除沉积在该颜色对应的亚像素沉积区域之外的该颜色的有机发光层;

沉积一层第二电极层的材料。

3.如权利要求2所述的制造方法,其特征在于,在所述沉积该颜色的有机发光层和所述沉积一层第二电极层的材料之间,还包括:

刻蚀去除沉积在该颜色对应的亚像素沉积区域之外的该颜色的有机发光层。

4.如权利要求3所述的制造方法,其特征在于,

沉积在该颜色对应的亚像素沉积区域中的该颜色的有机发光层的厚度,大于沉积在该颜色对应的亚像素沉积区域之外的该颜色的有机发光层的厚度;

所述刻蚀去除沉积在该颜色对应的亚像素沉积区域之外的该颜色的有机发光层,包括:

通过控制刻蚀速度,使得沉积在该颜色对应的亚像素沉积区域之外的该颜色的有机发光层被完全刻蚀掉,而沉积在该颜色对应的亚像素沉积区域的该颜色的有机发光层被部分刻蚀掉。

5.如权利要求3所述的制造方法,其特征在于,所述刻蚀去除沉积在该颜色对应的亚像素沉积区域之外的该颜色的有机发光层,包括:

通过一次光刻工艺,刻蚀掉沉积在该颜色对应的亚像素沉积区域之外的该颜色的有机发光层。

6.如权利要求1所述的制造方法,其特征在于,

所述通过光刻工艺,刻蚀掉第一电极上的绝缘层,以形成亚像素沉积区域,并在所述亚像素沉积区域形成对应颜色的有机发光层,包括:

通过一次光刻工艺,刻蚀掉所有第一电极上的绝缘层,以形成包括所有亚像素沉积区域的图形;

针对每种颜色的有机发光层,均依次执行以下处理,以最终在所有亚像素沉积区域沉积对应颜色的有机发光层:沉积该颜色的有机发光层;通过一次光刻工艺,刻蚀去除沉积在该颜色对应的亚像素沉积区域之外的该颜色的有机发光层。

7.如权利要求6所述的制造方法,其特征在于,所述通过一次光刻工艺,刻蚀掉所有第一电极上的绝缘层,以形成包括所有亚像素沉积区域的图形,包括:

在绝缘层上涂敷一层光刻胶;

对光刻胶进行曝光,使光刻胶形成光刻胶保留区域和光刻胶未保留区域,其中,光刻胶未保留区域对应于所有的亚像素沉积区域,光刻胶保留区域对应于除所有的亚像素沉积区域以外的区域;

进行显影处理,去除光刻胶未保留区域的光刻胶,而保留光刻胶保留区域的光刻胶;

刻蚀掉光刻胶未保留区域的绝缘层,形成包括所有亚像素沉积区域的图形;

剥离剩余的光刻胶。

8.如权利要求2至7任一项所述的制造方法,其特征在于,

所述有机发光层的颜色包括红色、蓝色和绿色;其中:

红色的有机发光层包括:空穴传输层、红光发光层和电子传输层;

蓝色的有机发光层包括:空穴传输层、蓝光发光层和电子传输层;

绿色的有机发光层包括:空穴传输层、绿光发光层和电子传输层。

9.如权利要求1所述的制造方法,其特征在于,

所述第一电极为阳极层,所述第二电极层为阴极层。

10.一种有机发光显示面板,其特征在于:所述有机发光显示面板采用如权利要求1至9中任一项所述的方法制造得到。

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