[发明专利]具有可扩展性漂移区电阻的高压晶体管模型方法无效
| 申请号: | 201110312430.3 | 申请日: | 2011-10-14 |
| 公开(公告)号: | CN103049589A | 公开(公告)日: | 2013-04-17 |
| 发明(设计)人: | 武洁 | 申请(专利权)人: | 上海华虹NEC电子有限公司 |
| 主分类号: | G06F17/50 | 分类号: | G06F17/50 |
| 代理公司: | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人: | 张骥 |
| 地址: | 201206 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 具有 扩展性 漂移 电阻 高压 晶体管 模型 方法 | ||
1.一种具有可扩展性漂移区电阻的高压晶体管模型方法,其特征在于,包括以下步骤:
第一步,按照器件结构,将漏侧漂移区分为三部分:沟道有源区下的漂移区Loverld、场氧下的漂移区Ldrift1和漏极有源区下的漂移区Ldrift2;将源侧漂移区也分为三部分:沟道有源区下的漂移区Lovers、场氧下漂移区Ldrifts1和源极有源区下的漂移区Ldrifts2;
第二步,精确模拟每部分漂移区的电阻特性;
采用下述公式模拟器件的栅源电压Vgs、漏源电压Vds和体源电压Vbs对漂移区电阻特性的影响;
并采用下述公式模拟器件沟道长度、沟道宽度及漂移区各部分尺寸对漂移区电阻的影响;
漏侧漂移区长度Ldrift=Loverld+Ldrift1+Ldrift2 (3)
其中:
f1(Ldrift1)=Ldrift1×RDSLP1+RDICT1 (4)
f2(Ldrift2)=Ldrift2×RDSLP2+RDICT2 (5)
或者
源侧漂移区长度Ldrift=Lovers+Ldrifts1+Ldrifts2 (7)
其中:
f1(Ldrifts1)=Ldrifts1×RDSLP1+RDICT1 (8)
f2(Ldrifts2)=Ldrifts2×RDSLP2+RDICT2 (9)
其中:
Rdrift是漂移区电阻;
Ldrift是漂移区的长度;
Vgs,Vbs,Vds分别是栅源电压、体源电压和漏源电压;
RDVG1,RDVG2,RDVB,RDVD1分别是栅源一阶电压系数、栅源二阶电压系数、体源一阶电压系数、漏源电压指数;
W,L分别是器件沟道宽度、沟道长度;
Ddrift是漂移区结深;
Wdep是漂移区与衬底PN结在漂移区侧所形成的耗尽区宽度;
RDVD,RDVDL,RDVDS是与器件沟道宽度、沟道长度相关的漂移区电阻阻值;
RDVDLP是指数项的修正因子;
RDSLP1,RDICT1是Ldrift1修正因子;
RDSLP2,RDICT2是Ldrift2修正因子;
RDOV1,RDOV2,RDOV3是Lover修正因子。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海华虹NEC电子有限公司,未经上海华虹NEC电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110312430.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。





