[发明专利]具有可扩展性漂移区电阻的高压晶体管模型方法无效

专利信息
申请号: 201110312430.3 申请日: 2011-10-14
公开(公告)号: CN103049589A 公开(公告)日: 2013-04-17
发明(设计)人: 武洁 申请(专利权)人: 上海华虹NEC电子有限公司
主分类号: G06F17/50 分类号: G06F17/50
代理公司: 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 代理人: 张骥
地址: 201206 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 具有 扩展性 漂移 电阻 高压 晶体管 模型 方法
【权利要求书】:

1.一种具有可扩展性漂移区电阻的高压晶体管模型方法,其特征在于,包括以下步骤:

第一步,按照器件结构,将漏侧漂移区分为三部分:沟道有源区下的漂移区Loverld、场氧下的漂移区Ldrift1和漏极有源区下的漂移区Ldrift2;将源侧漂移区也分为三部分:沟道有源区下的漂移区Lovers、场氧下漂移区Ldrifts1和源极有源区下的漂移区Ldrifts2;

第二步,精确模拟每部分漂移区的电阻特性;

采用下述公式模拟器件的栅源电压Vgs、漏源电压Vds和体源电压Vbs对漂移区电阻特性的影响;

Rdrift=RDVD(1+RDVG1-RDVG1RDVG2Vgs)×(1-Vbs×RDVB)×VdsRDVD1×(LdriftDdrift-Wdep))---(1)]]>

并采用下述公式模拟器件沟道长度、沟道宽度及漂移区各部分尺寸对漂移区电阻的影响;

RDVD=RDVDW×exp(-RDVDL×LRDVDLP)×(1+RDVDSW×L)×f1×f2×f3---(2)]]>

漏侧漂移区长度Ldrift=Loverld+Ldrift1+Ldrift2    (3)

其中:

f1(Ldrift1)=Ldrift1×RDSLP1+RDICT1              (4)

f2(Ldrift2)=Ldrift2×RDSLP2+RDICT2              (5)

f3(Lover)=1+(RDOV1-RDOV1RDOV2)×Loverld+(1-RDOV3)×Loverld---(6)]]>

或者

源侧漂移区长度Ldrift=Lovers+Ldrifts1+Ldrifts2   (7)

其中:

f1(Ldrifts1)=Ldrifts1×RDSLP1+RDICT1        (8)

f2(Ldrifts2)=Ldrifts2×RDSLP2+RDICT2        (9)

f3(Lovers)=1+(RDOV1-RDOV1RDOV2)×Lovers+(1-RDOV3)×Lovers---(10)]]>

其中:

Rdrift是漂移区电阻;

Ldrift是漂移区的长度;

Vgs,Vbs,Vds分别是栅源电压、体源电压和漏源电压;

RDVG1,RDVG2,RDVB,RDVD1分别是栅源一阶电压系数、栅源二阶电压系数、体源一阶电压系数、漏源电压指数;

W,L分别是器件沟道宽度、沟道长度;

Ddrift是漂移区结深;

Wdep是漂移区与衬底PN结在漂移区侧所形成的耗尽区宽度;

RDVD,RDVDL,RDVDS是与器件沟道宽度、沟道长度相关的漂移区电阻阻值;

RDVDLP是指数项的修正因子;

RDSLP1,RDICT1是Ldrift1修正因子;

RDSLP2,RDICT2是Ldrift2修正因子;

RDOV1,RDOV2,RDOV3是Lover修正因子。

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