[发明专利]曝光装置和图像形成装置有效

专利信息
申请号: 201110302458.9 申请日: 2011-10-08
公开(公告)号: CN102615996A 公开(公告)日: 2012-08-01
发明(设计)人: 冈崎祥也;片冈秀树 申请(专利权)人: 富士施乐株式会社
主分类号: B41J2/45 分类号: B41J2/45;G03G15/00
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 李辉;黄纶伟
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 曝光 装置 图像 形成
【说明书】:

技术领域

本发明涉及曝光装置和图像形成装置。

背景技术

专利文献1公开了一种探测系统,该探测系统能够针对抵靠要被测试的基板上的测试焊盘(检查用电极)按压探针的量来电气地检测测试焊盘的高度,并且控制按压量以使其变为给定量,由此在不依靠高密度基板的测试焊盘的高度变化的情况下可靠地使探针与测试焊盘电接触。

[专利文献1]JP-A-2-130477

发明内容

本发明的目的是提供一种曝光装置,该曝光装置抑制由于施加于检查用电极的按压力而导致的待检查的发光元件的光轴的偏离。

根据本发明的第一方面,提供一种曝光装置,该曝光装置包括:长基板;多个发光元件,它们沿所述基板的纵向设置在所述基板的一面上;多个检查用电极,它们沿所述基板的纵向设置在所述基板的另一面上;以及多条电线,各条电线均电连接在所述多个发光元件中的一个发光元件与所述多个检查用电极中的一个检查用电极之间,所述多个检查用电极中的所述一个检查用电极不最靠近所述多个发光元件中的所述一个发光元件。

根据本发明的第二方面,提供了根据第一方面的曝光装置,该曝光装置还包括:壳体,其收纳所述基板;以及多个固定部,它们沿所述基板的纵向设置以将所述基板与所述壳体固定,其中,连接在所述多个发光元件中的所述一个发光元件与所述多个检查用电极中的所述一个检查用电极之间的所述多条电线中的每一条电线均设置在所述多个固定部中的至少一个固定部上。

根据本发明的第三方面,提供了根据第一方面的曝光装置,其中,所述发光元件的沿所述基板的纵向的长度比所述检查用电极沿所述基板的纵向的长度长,并且所述多个检查用电极中的每一个检查用电极设置在所述发光元件沿所述基板的纵向的长度的范围之内。

根据本发明的第四方面,提供了根据第一方面的曝光装置,其中,所述检查用电极被检查探针按压,该检查探针向所述发光元件提供电流。

根据本发明的第五方面,提供了根据第一方面的曝光装置,其中,所述多个发光元件在所述基板上沿所述基板的纵向按直线设置。

根据本发明的第六方面,提供了根据第一方面的曝光装置,其中,所述多个发光元件在所述基板上沿所述基板的纵向上在一直线两侧交替地设置。

根据本发明的第七方面,提供了一种图像形成装置,该图像形成装置包括:根据第一至第六方面中任一方面的所述曝光装置;图像承载体,其被所述曝光装置曝光并且在其上形成静电潜像;显影装置,其利用色调剂对所述图像承载体上形成的所述静电潜像进行显影;以及转印装置,其将被所述显影装置显影的色调剂图像转印到被转印体上。

根据本发明的第一方面和第三方面至第六方面,当从基板的横向观看基板时,与各发光元件连接至位于相对位置处的检查用电极的情况相比,可以抑制由施加于检查用电极的按压力造成的待检查的发光元件的光轴偏离。

根据本发明的第二方面,当从基板的横向观看基板时,与各发光元件连接至未跨固定装置的检查用电极的情况相比,可以进一步抑制由施加于检查用电极的按压力造成的待检查的发光元件的光轴偏离,并且可以缩短发光元件和检查用电极之间的布线距离。

根据本发明的第七方面,与不包括根据第一方面或第二方面的曝光装置的情况相比,可以形成高精度图像。

附图说明

将基于附图详细描述本发明的示例性实施方式,其中:

图1是示出了关于本发明的示例性实施方式的图像形成装置的构造的整体构造图;

图2是图1中示出的曝光装置的立体图;

图3是图1中示出的曝光装置的横截面图;

图4是图1中示出的曝光装置的仰视图;

图5是当从图2中所示的印刷线路板的横向观看该印刷电路板时的侧面图,并且是示出了检查LED阵列时的状态的说明图;

图6是示出了检查LED阵列时的状态的说明图,其示出为图5的比较示例;以及

图7是与图5类似的说明图,其示出了图5的印刷线路板的另一个状态。

具体实施方式

下面将参照附图描述与本发明有关的曝光装置和图像形成装置的示例性实施方式。

(整体构造)

图1示出了具有与本发明的示例性实施方式有关的曝光装置的图像形成装置的构造的一个示例。

如图1所示,图像形成装置10的装置主体10A设置有中间转印体带14,该中间转印体带14充当要被转印的环形带状体的一个示例,并且在多个辊12上拉伸并且通过电机(未示出)的驱动而沿箭头A的方向被传送。

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