[发明专利]曝光装置和图像形成装置有效
申请号: | 201110302458.9 | 申请日: | 2011-10-08 |
公开(公告)号: | CN102615996A | 公开(公告)日: | 2012-08-01 |
发明(设计)人: | 冈崎祥也;片冈秀树 | 申请(专利权)人: | 富士施乐株式会社 |
主分类号: | B41J2/45 | 分类号: | B41J2/45;G03G15/00 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 李辉;黄纶伟 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 曝光 装置 图像 形成 | ||
1.一种曝光装置,该曝光装置包括:
基板;
多个发光元件,它们沿所述基板的纵向设置在所述基板的一面上;
多个检查用电极,它们沿所述基板的纵向设置在所述基板的另一面上;以及
多条电线,各条电线均电连接在所述多个发光元件中的一个发光元件与所述多个检查用电极中的一个检查用电极之间,所述多个检查用电极中的所述一个检查用电极不最靠近所述多个发光元件中的所述一个发光元件。
2.根据权利要求1所述的曝光装置,该曝光装置还包括:
壳体,其收纳所述基板,以及
多个固定部,它们沿所述基板的纵向设置以将所述基板与所述壳体固定,
其中,连接在所述多个发光元件中的所述一个发光元件与所述多个检查用电极中的所述一个检查用电极之间的所述多条电线中的每一条电线布置在所述多个固定部中的至少一个固定部上。
3.根据权利要求1所述的曝光装置,其中,所述发光元件沿所述基板的纵向的长度比所述检查用电极沿所述基板的纵向的长度长,并且所述多个检查用电极中的每一个检查用电极均设置在所述发光元件沿所述基板的纵向的长度范围之内。
4.根据权利要求1所述的曝光装置,其中,所述检查用电极被检查探针按压,该检查探针向所述发光元件提供电流。
5.根据权利要求1所述的曝光装置,其中,所述多个发光元件在所述基板上沿所述基板的纵向按直线设置。
6.根据权利要求1所述的曝光装置,其中,所述多个发光元件在所述基板上沿所述基板的纵向在一直线两侧交替地设置。
7.一种图像形成装置,该图像形成装置包括:
权利要求1至6中任一项所述的曝光装置;
图像承载体,其被所述曝光装置曝光并且在其上形成静电潜像;
显影装置,其利用色调剂对在所述图像承载体上形成的所述静电潜像进行显影;以及
转印装置,其将被所述显影装置显影的色调剂图像转印到被转印体上。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于富士施乐株式会社,未经富士施乐株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
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