[发明专利]离子注入装置

说明书

技术领域

本发明涉及通过掩模向基板的规定区域进行离子注入的离子注入装置。

背景技术

太阳能电池的制造工序中采用离子注入装置。近来，在这种离子注入装置中，代替昂贵的感光胶，利用碳和硅构成的廉价的掩模向基板(例如硅晶片)进行离子注入的技术开发正在盛行。

作为一个例子，专利文献1(美国专利公报US7816239B2号)的图2公开了一种质量分析型的离子注入装置。

专利文献1公开的质量分析型的离子注入装置尽管可以提高装置的制造精度，但需要具备能够实现质量分析功能的分析磁铁和分析孔，相应地提高了装置价格。

而对于太阳能电池的制造，不需要保持以往的半导体装置那样的制造精度。因此，可以考虑使用平板显示器的制造中利用的不具备质量分析功能的喷淋式离子注入装置，来代替专利文献1的图2中记载的具备质量分析功能的离子注入装置。

但是，现有的喷淋式的离子注入装置沿重力方向从离子源向正下方照射离子束，对配置在离子源下方的基板进行离子注入，所以例如存在离子源的灯丝产生的金属微粒或离子源的等离子室内堆积的堆积物混入基板的问题。

为防止所述微粒等混入基板，可以考虑利用静电或电场，使从离子源引出的离子束发生偏转后照射到基板上，但是如果采用这种偏转装置，则不仅装置结构复杂，而且装置价格也会提高。

发明内容

因此，本发明的目的在于提供一种离子注入装置，通过廉价且简单的装置结构，能够防止离子源产生的微粒混入基板。

本发明的离子注入装置包括：离子源，通过离子束引出口朝向与重力方向交差的方向引出离子束；输送盘，装载有基板；掩模，安装在所述输送盘上，且至少具有一个开口部；以及驱动机构，通过使所述输送盘在与所述离子束交差的方向上移动，使所述离子束经过所述掩模上形成的开口部，对所述基板的规定区域进行照射，所述离子注入装置的特征在于，还包括防尘板，在沿重力方向观察所述离子束引出口时，所述防尘板覆盖所述离子束引出口的下方，并且不妨碍所述离子束照射所述基板。

如上所述，由于离子束相对于重力方向倾斜照射在基板上，并且具备防尘板，该防尘板覆盖离子源的离子束引出口的下方、且不妨碍离子束照射基板，所以通过廉价且简单的装置结构，能够防止离子源产生的微粒混入基板。

此外，优选的是，所述掩模上形成的所述开口部与从所述离子源引出的所述离子束的引出方向平行。

如上所述，如果预先形成掩模的开口部，则可以防止在开口部内因离子束而发生溅射。由此，可以防止伴随溅射产生的微粒混入基板。

为抑制防尘板上堆积的微粒从防尘板飞散，优选的是，在所述防尘板上设置有直立部，所述直立部从所述防尘板的表面向上方突出。

利用上述结构，即使微粒从防尘板飞散，该微粒也会撞到直立部，并再次堆积在防尘板上。

此外，为提高抑制微粒从防尘板飞散的效果，优选的是，所述直立部设置在所述防尘板的沿重力方向与所述离子源相对的相对面的整个周向上。

另一方面，为有效抑制微粒混入基板，优选的是，在从重力方向观察时，所述直立部设置在所述防尘板的沿所述输送盘输送方向与所述基板相对配置的端部上。

如果采用所述结构，则可以高效抑制微粒从防尘板飞散。

由于离子束相对于重力方向倾斜照射在基板上，并且具备防尘板，该防尘板覆盖离子源的离子束引出口的下方、且不妨碍离子束照射基板，所以通过廉价且简单的装置结构，能够防止离子源产生的微粒混入基板。

附图说明

图1是表示本发明一个实施方式的离子注入装置整体的平面图。

图2是表示从重力方向观察的图1所示装置的平面图。

图3是表示在输送盘上装载多枚基板的示例的平面图，(A)表示沿Z方向装载多枚基板的示例，(B)表示沿X方向装载多枚基板的示例，(C)表示以矩阵状装载基板的示例。

图4是图1、图2记载的防尘板的其他示例，(A)表示XZ平面上的防尘板的形态，(B)表示沿(A)记载的A-A线的断面图。

图5是与图1、图2记载的防尘板不同的示例，(A)表示XZ平面上的防尘板的形态，(B)表示XY平面上的防尘板的形态。

图6是表示图1、图2记载的防尘板的其他示例的平面图。

图7是表示与图1、图2记载的防尘板不同的又一示例的平面图。

图8是表示从X方向观察的图7所示装置的平面图。

图9是表示图1、图2记载的防尘板的其他示例的平面图。

图10是表示从重力方向观察的图9所示装置的平面图。