[发明专利]离子注入装置

权利要求书

1.一种离子注入装置，包括：

离子源，通过离子束引出口朝向与重力方向交差的方向引出离子束；

输送盘，装载有基板；

掩模，安装在所述输送盘上，且至少具有一个开口部；以及

驱动机构，通过使所述输送盘在与所述离子束交差的方向上移动，使所述离子束经过所述掩模上形成的开口部，对所述基板的规定区域进行照射，所述离子注入装置的特征在于，

还包括防尘板，在沿重力方向观察所述离子束引出口时，所述防尘板覆盖所述离子束引出口的下方，并且不妨碍所述离子束照射所述基板。

2.根据权利要求1所述的离子注入装置，其特征在于，所述掩模上形成的所述开口部与从所述离子源引出的所述离子束的引出方向平行。

3.根据权利要求1或2所述的离子注入装置，其特征在于，在所述防尘板上设置有直立部，所述直立部从所述防尘板的表面向上方突出。

4.根据权利要求3所述的离子注入装置，其特征在于，所述直立部设置在所述防尘板的沿重力方向与所述离子源相对的相对面的整个周向上。

5.根据权利要求3所述的离子注入装置，其特征在于，在从重力方向观察时，所述直立部设置在所述防尘板的沿所述输送盘输送方向与所述基板相对配置的端部上。