[发明专利]基板清洗系统有效
申请号: | 201110299537.9 | 申请日: | 2011-09-28 |
公开(公告)号: | CN102626695A | 公开(公告)日: | 2012-08-08 |
发明(设计)人: | 吴健 | 申请(专利权)人: | 北京京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | B08B3/02 | 分类号: | B08B3/02;B08B13/00;H01L21/67 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
地址: | 100176 北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 清洗 系统 | ||
技术领域
本发明涉及薄膜晶体管液晶显示器制造领域,尤其涉及一种基板清洗系统。
背景技术
在TFT-LCD(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display,薄膜晶体管液晶显示器)制造过程中,基板经过光刻、湿法刻蚀、剥离等工艺之后,需要进行清洗。一般地,基板从药液区间出来后,直接进入水洗区间进行清洗,由于基板的药液携带量大,会有较多的药液进入水洗区间,直接从水洗区间排入废水系统,从而造成环境污染,并且水洗区间的用水量大,水在使用后直接排入废水系统,造成了水资源的浪费。
如图1所示,为现有技术中的基板清洗系统示意图,基板11进入药液区间13,通过传动装置12传送至第一水洗区间14,基板11上会携带大量药液,进入第一水洗区间14清洗,而第一水洗区间14清洗后的水直接排出,造成了水资源的浪费。
发明内容
本发明的实施例提供一种基板清洗系统,能够对水资源进行循环利用,减少了废水的排放,节省了水资源。
为达到上述目的,本发明的实施例采用如下技术方案:
提供一种基板清洗系统,包括药液区间、药液供给区间以及至少两个水洗区间,与所述药液区间相邻的水洗区间为第一水洗区间,与第一水洗区间相邻的水洗区间为第二水洗区间,药液区间与各个水洗区间都设置有喷洒装置以及水平方向的传动装置,其中所述药液供给区间将药液输入所述药液区间的喷洒装置,以对传动装置上运送的基板进行药液喷洒,所述药液供给区间还对经所述药液区间的喷洒装置喷洒的药液进行回收,其特征在于,还包括:第一水供给单元、第二水供给单元,其中,
所述第一水供给单元、第二水供给单元都与所述第一水洗区间连接,用于轮流为所述第一水洗区间的喷洒装置供水,所述第一水洗区间还通过回流管路连接至所述第一水供给单元、第二水供给单元,以将喷洒装置喷出的水和基板上冲下的药液回收入所述第一水供给单元、第二水供给单元;所述第一水供给单元、第二水供给单元经排水管道进行废水排放;
所述第一水供给单元、第二水供给单元将通过所述回流管路得到的水及从所述第二水洗区间得到的水重新输入所述第一水洗区间,以对基板进行喷洒。
本发明实施例提供的基板清洗系统,通过设置第一水供给单元、第二水供给单元,将从第一水洗区间及第二水洗区间回收的水进行循环利用并在达到一定的排放标准后再排放,减少了废水的排放,大大节约了水资源。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍。显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为现有技术中的基板清洗系统示意图;
图2为本发明实施例1提供的基板清洗系统示意图;
图3为本发明实施例2提供的基板清洗系统示意图一;
图4为本发明实施例2提供的基板清洗系统示意图二;
图5为本发明实施例3提供的基板清洗系统示意图;
图6为本发明实施例3提供的第一水供给单元结构示意图;
图7为本发明实施例3提供的水回收单元结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
实施例1
本发明实施例提供一种基板清洗系统,如图2所示,包括:
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