[发明专利]一种制备金纳米粒子的方法无效
| 申请号： | 201110298449.7 | 申请日： | 2011-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN102343439A | 公开（公告）日： | 2012-02-08 |
| 发明（设计）人： | 李培刚;安跃华;申婧翔;张媛;王顺利;唐为华 | 申请（专利权）人： | 浙江理工大学 |
| 主分类号： | B22F9/04 | 分类号： | B22F9/04;B82Y40/00;B82Y30/00 |
| 代理公司： | 浙江英普律师事务所 33238 | 代理人： | 陈小良 |
| 地址： | 310018 浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 制备 纳米 粒子 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种制备金纳米粒子的方法，其特征包括如下步骤：
(1)先切割1.5×1.5cm的本征硅片，并超声清洗干净，自然晾干；
(2)制备一定浓度的SDS水溶液，其中水溶液中的SDS与去离子水的摩尔比为3∶5；
(3)用旋涂法将配好的SDS溶液旋涂在本征硅片上，自然晾干；
(4)把步骤(3)的产物用磁控溅射法镀一层厚度为25～32nm的金薄膜；
(5)把步骤(4)的产物置于正在超声的无水乙醇与去离子水的混合液中；
(6)待金薄膜离开硅片时移去硅片；
(7)进行离心分离，即可得产物。
2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于所述的步骤(3)的旋涂要求为：首先800r/min旋涂8s，然后再2500r/min旋涂30s。
3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于所述的步骤(4)的在步骤(3)的产物表面用磁控溅射法镀一层厚度为30纳米的金薄膜，控制参数为50W，时间为3min。
4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于所述的步骤(5)的无水乙醇与水的体积比例为2∶7。
5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于所述的步骤(7)的离心分离过程中首先用少量的丙酮和乙醇洗涤，然后用乙醇洗涤。
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