[发明专利]一种TFT阵列基板及显示装置有效
申请号: | 201110298250.4 | 申请日: | 2011-09-29 |
公开(公告)号: | CN102651400A | 公开(公告)日: | 2012-08-29 |
发明(设计)人: | 戴天明;姚琪;张锋 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | H01L29/786 | 分类号: | H01L29/786;H01L29/15;H01L27/02 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 tft 阵列 显示装置 | ||
1.一种TFT阵列基板,包括:数据线和栅线,以及在所述数据线和栅线限定的像素单元中形成的薄膜晶体管,所述薄膜晶体管包括:栅极、栅绝缘层、有源层、欧姆接触层以及源极、漏极;其特征在于,所述有源层为超晶格结构,该超晶格结构包括预定数目的层叠的层组,所述层组包括半导体单层和非半导体单层。
2.根据权利要求1所述的TFT阵列基板,其特征在于,所述半导体单层与所述非半导体单层的晶格常数匹配。
3.根据权利要求1所述的TFT阵列基板,其特征在于,所述超晶格结构的最上层为半导体单层,或者非半导体单层。
4.根据权利要求1所述的TFT阵列基板,其特征在于,所述预定数目至少为10。
5.根据权利要求1所述的TFT阵列基板,其特征在于,所述预定数目的范围为10~50。
6.根据权利要求1~5任一项权利要求所述的TFT阵列基板,其特征在于,所述半导体单层的厚度与所述非半导体单层的厚度均小于等于10nm。
7.根据权利要求1~5任一项权利要求所述的TFT阵列基板,其特征在于,所述半导体单层为第IV族半导体或第III-V族半导体或II-VI族半导体构成的半导体单层,所述非半导体单层为氧或氮或氟或碳-氧构成的非半导体单层。
8.根据权利要求7所述的TFT阵列基板,其特征在于,所述半导体单层为非晶硅单层或者IGZO单层,所述非半导体单层为氧化铝单层、氮化铝单层、氧化硅单层或者氮化硅单层。
9.一种显示装置,其特征在于,包括:权利要求1~8任一项权利要求所述的TFT阵列基板。
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