[发明专利]一种聚合物微孔膜及其制备方法无效
申请号: | 201110290645.X | 申请日: | 2011-09-29 |
公开(公告)号: | CN103030852A | 公开(公告)日: | 2013-04-10 |
发明(设计)人: | 陈铭;陈光炎 | 申请(专利权)人: | 陈光炎 |
主分类号: | C08L23/00 | 分类号: | C08L23/00;C08L27/12;C08L77/00;C08L79/08;C08K5/17;B29C55/00;B01D71/26;B01D71/32;B01D71/56;B01D71/64;B01D67/00;H01M2/16;H01G9/02 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 聚合物 微孔 及其 制备 方法 | ||
1.一种聚合物微孔膜,其特征在于它主要由以下重量百分比的原料制成:
聚合物 70-99.99%
吸波剂 0.01-30%
所述的吸波剂为烃基乙醇胺衍生物中的一种或其任意比例的组合;所述的聚合物为聚烯烃、聚碳氟化合物、聚酰胺、聚酰亚胺、及其共聚物中的一种或其任意比例的组合。
2.根据权利要求1所述的烃基乙醇胺衍生物,其特征在于所述的烃基为碳原子数不小于4的烷烃、烯烃、芳香烃、及其取代烃中的一种或其组合。
3.根据权利要求1所述的聚合物微孔膜的制备方法,其特征在于制备过程包括以下步骤:
1)吸波剂与聚合物和其它物料共同加热熔融并混匀,使吸波剂溶解在聚合物中,然后制成无孔基膜;
2)在随后的拉伸过程中采用微波照射,制成聚合物微孔膜。
4.根据权利要求3所述聚合物微孔膜的制备的方法,其特征在于步骤(2)中所述的微波是频率为300MHz-300GHz的电磁波。
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