[发明专利]太阳能多晶硅片切割废液中碳化硅质量含量的分析方法无效

专利信息
申请号: 201110277855.5 申请日: 2011-09-19
公开(公告)号: CN102435530A 公开(公告)日: 2012-05-02
发明(设计)人: 苗立贤;姚纪兰;苗瀛 申请(专利权)人: 张云新
主分类号: G01N5/04 分类号: G01N5/04
代理公司: 郑州大通专利商标代理有限公司 41111 代理人: 张爱军
地址: 200237 上海市*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 太阳能 多晶 硅片 切割 废液 碳化硅 质量 含量 分析 方法
【权利要求书】:

1.一种太阳能多晶硅片切割废液中碳化硅质量含量的分析方法,其特征在于:所述方法包括以下步骤  

 (1)取样  将回收后的太阳能多晶硅片切割废液中的碳化硅粉浆料经酸洗、去离子水漂洗,离心、烘干,得到含碳化硅的试样;经除铁、烘干,放入干燥器中,备用;

(2)三氧化二铁的去除  将烘干后的试样称重,质量为m1;把试样放入聚四氟乙烯烧杯中,加入去离子水将试样浸泡湿润,然后向所述烧杯中缓慢加入过量稀硫酸,用玻璃棒搅拌,使试样与硫酸充分反应; 

(3)二氧化硅、单质硅的去除  向所述烧杯中加入过量氢氟酸,同时用塑料棒搅拌,使试样中的二氧化硅、单质硅与氢氟酸反应;反应时在烧杯上加盖,待反应结束后冷却至室温,静置20-40min;

(4)碳化硅的分离  向所述烧杯中加入50-70℃的去离子水,晃动烧杯,使反应后生成的硫酸铁充分溶解于去离子水中;将试样静置40-60min,澄清、分层;然后用滤纸反复过滤3-5次,得到碳化硅沉淀;将碳化硅沉淀用去离子水反复漂洗,最后向碳化硅沉淀中加入50-80ml去离子水,测量其pH 值,使其pH 值控制在6-7的范围内;

(5)游离碳的去除  把陶瓷坩埚预先放入箱式电阻炉中烘干,对陶瓷坩埚称重,质量为m2;把漂洗后的碳化硅沉淀连同滤纸放入陶瓷坩埚中,把陶瓷坩埚放入电阻炉中烘烧5~7min;取出陶瓷坩埚,冷却至室温;

(6)称重:把陶瓷坩埚和碳化硅沉淀用电子天平称重,质量为m3

(7)碳化硅质量含量的计算:计算公式:W=(m3-m2 )/m1×100%; 

式中,m3:陶瓷坩埚和碳化硅沉淀的质量;m2:陶瓷坩埚的质量;m1:试样的质量,单位均为克。

2.根据权利要求1所述的分析方法,其特征在于:所述稀硫酸为体积比1:1的硫酸水溶液。

3.根据权利要求1所述的分析方法,其特征在于:所述步骤(3)中反应时把烧杯放入80-90℃的水浴炉内加热15-20 min。

4.根据权利要求1所述的分析方法,其特征在于:当漂洗时出现沉淀物与去离子水分离不清或有漂浮物时,则加入5%的盐酸进行漂洗。

5.根据权利要求1所述的分析方法,其特征在于:所述烘烧温度为750±10℃。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于张云新,未经张云新许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110277855.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top