[发明专利]电弧离子镀膜装置无效
| 申请号： | 201110271057.1 | 申请日： | 2011-09-14 |
| 公开（公告）号： | CN102994960A | 公开（公告）日： | 2013-03-27 |
| 发明（设计）人： | 张新倍;黄登聪;彭立全 | 申请（专利权）人： | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/32 | 分类号： | C23C14/32 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 电弧 离子 镀膜 装置 | ||
1.一种电弧离子镀膜装置，其包括一反应室，其特征在于：该电弧离子镀膜装置还包括可拆卸地设置于反应室中央的多个靶材和多个分隔板；该多个分隔板为相交设置，每一分隔板包括一侧面，该多个分隔板的所述侧面邻接设置；所述每一靶材位于相邻的二分隔板所围成的区域内。
2.如权利要求1所述的电弧离子镀膜装置，其特征在于：该多个分隔板的所述侧面相交，且使相邻的二分隔板相交之间形成的角度均相等。
3.如权利要求1所述的电弧离子镀膜装置，其特征在于：所述靶材为圆柱靶。
4.如权利要求1所述的电弧离子镀膜装置，其特征在于：反应室的底板上分别设置有多个靶材电源，并分别与相应的靶材相连接。
5.如权利要求1所述的电弧离子镀膜装置，其特征在于：该电弧离子镀膜装置还包括一围绕靶材及分隔板设置的转架系统，该转架系统用以装载基材。
6.如权利要求5所述的电弧离子镀膜装置，其特征在于：所述转架系统包括一内转架及一外转架，该内转架设置于靶材与外转架之间；该外转架设置于内转架与反应室腔壁之间。
7.如权利要求6所述的电弧离子镀膜装置，其特征在于：当反应室的中心点、靶材及内转架上的基材成一直线时，内转架上的基材与靶材靶面的距离为200-400mm。
8.如权利要求6所述的电弧离子镀膜装置，其特征在于：当反应室的中心点、靶材及外转架上的基材成一直线时，外转架上的基材与靶材靶面的距离为350-600mm。
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