[发明专利]被研磨物的研磨方法及研磨垫有效
| 申请号： | 201110265297.0 | 申请日： | 2011-09-08 |
| 公开（公告）号： | CN102398209A | 公开（公告）日： | 2012-04-04 |
| 发明（设计）人： | 北村和正;长江智毅 | 申请（专利权）人： | 日本碍子株式会社 |
| 主分类号： | B24B37/04 | 分类号： | B24B37/04;B24B37/26;H01L21/304 |
| 代理公司： | 上海市华诚律师事务所 31210 | 代理人： | 梅高强;刘煜 |
| 地址： | 日本爱知县名古*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 研磨 方法 | ||
1.一种被研磨物的研磨方法，其特征在于，研磨垫在表面上的径向的中心区域和外周区域形成有不同的槽状态，所述中心区域或所述外周区域中的任一区域为形成有槽的第一研磨区域，另一区域为做成与所述第一研磨区域不同的槽状态的第二研磨区域，在该研磨垫上以横跨所述第一研磨区域与所述第二研磨区域的交界的状态配设被研磨物，使所述研磨垫及所述被研磨物旋转而研磨所述被研磨物，使所述被研磨物的表面形成为凹面或凸面。
2.根据权利要求1所述的被研磨物的研磨方法，其特征在于，在所述研磨垫的所述中心区域形成所述第一研磨区域，使所述被研磨物的表面形成为凹面。
3.根据权利要求1所述的被研磨物的研磨方法，其特征在于，在所述研磨垫的所述外周区域形成所述第一研磨区域，使所述被研磨物的表面形成为凸面。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的被研磨物的研磨方法，其特征在于，在所述研磨垫的所述第一研磨区域形成有同心圆状的所述槽。
5.一种研磨垫，其特征在于，在表面上的径向的中心区域和外周区域形成有不同的槽状态，所述中心区域或所述外周区域中的任一区域为形成有槽的第一研磨区域，另一区域为做成与所述第一研磨区域不同的槽状态的第二研磨区域。
6.一种被研磨物的研磨方法，其特征在于，在表面上形成有槽的研磨垫上配设被研磨物，使所述研磨垫及所述被研磨物以不同转速旋转，通过控制所述研磨垫及所述被研磨物的转速差，将所述被研磨物的表面研磨成凹面或凸面。
7.根据权利要求6所述的被研磨物的研磨方法，其特征在于，使所述研磨垫的转速比所述被研磨物的转速大，将所述被研磨物的表面形成为凹面。
8.根据权利要求6所述的被研磨物的研磨方法，其特征在于，使所述研磨垫的转速比所述被研磨物的转速小，将所述被研磨物的表面形成为凸面。
9.一种被研磨物的研磨方法，其特征在于，在表面上形成有槽的研磨垫上配设被研磨物，在所述研磨垫的径向上，在比所述被研磨物的中心部更靠近所述研磨垫的中心区域、以及比所述被研磨物的中心部更靠近所述研磨垫的外周区域供给不同的浆料，或者只在一个区域供给浆料，并使所述研磨垫及所述被研磨物旋转而研磨所述被研磨物，将所述被研磨物的表面形成为凹面或凸面。
10.根据权利要求9所述的被研磨物的研磨方法，其特征在于，在所述研磨垫的中心区域、和比所述被研磨物的中心部更靠近所述研磨垫的外周区域，供给不同pH的浆料，使所述被研磨物的表面形成为凹面或凸面。
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