[发明专利]一种提高发光二极管发光效率的方法有效

专利信息
申请号: 201110258718.7 申请日: 2011-09-02
公开(公告)号: CN102306691A 公开(公告)日: 2012-01-04
发明(设计)人: 韩杰;魏世祯 申请(专利权)人: 华灿光电股份有限公司
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00
代理公司: 江西省专利事务所 36100 代理人: 胡里程
地址: 430223 湖北省*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 一种 提高 发光二极管 发光 效率 方法
【权利要求书】:

1.一种提高发光二极管发光效率的方法,该二极管外延片结构从下向上的顺序依次为衬底(1),低温缓冲层(2),高温缓冲层(3),N型层(4),N型层(5),N型层(6),N型层(7),发光层(8),P型层(9),P型层(10),P型层(11);其特征在于:发光层中采用具有不同厚度的垒层来提高发光效率:靠近N型层一侧的垒层厚度为15nm到25nm,而靠近P型层一侧的垒层的厚度在5到15nm;垒层的生长厚度介于5nm至20nm之间,生长温度介于800℃至1050℃之间,V/III摩尔比介于1000至20000之间。

2.如权利要求1所述提高发光二极管发光效率的方法,其特征在于:发光层中,垒层的结构可以是AlxInyGa1-x-yN  0≤x<1,0≤y<1,x+y<1。

3.如权利要求1或2所述提高发光二极管发光效率的方法,其特征在于:发光层中间X个垒层的厚度较厚,其余Y个垒层的厚度较薄,且中间X个垒层的厚度大于其余Y个垒层的厚度。

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