[发明专利]铜面粗化微蚀刻剂有效
| 申请号： | 201110257972.5 | 申请日： | 2011-09-02 |
| 公开（公告）号： | CN102286745A | 公开（公告）日： | 2011-12-21 |
| 发明（设计）人： | 章晓冬;刘江波 | 申请（专利权）人： | 广州市天承化工有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/18 | 分类号： | C23F1/18 |
| 代理公司： | 广州新诺专利商标事务所有限公司 44100 | 代理人： | 张玲春 |
| 地址： | 510990 广东省广州市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 铜面粗化微 蚀刻 | ||
【权利要求书】：
1.一种铜面粗化微蚀刻剂，其特征在于，该微蚀刻剂包含如下质量百分含量的各组分：
氯化铜 5-15％
氯化钠 2-10％
有机酸及其盐 3-20％
缓蚀剂 0.001-0.2％
水 余量。
2.根据权利要求1所述的铜面粗化微蚀刻剂，其特征在于：所述有机酸包含甲酸、苹果酸及衣康酸中的一种或二者以上的混合物。
3.根据权利要求1所述的铜面粗化微蚀刻剂，其特征在于：所述有机酸的盐类物质包含有：甲酸钠。
4.根据权利要求1所述的铜面粗化微蚀刻剂，其特征在于：所述缓蚀剂为硫脲或乌洛托品。
5.根据权利要求1所述的铜面粗化微蚀刻剂，其特征在于：所述微蚀刻剂包含如下质量百分含量的各组分：
氯化铜 8％
氯化钠 5％
甲酸 6％
甲酸钠 8％
硫脲 0.01％
去离子水 余量。
6.根据权利要求1所述的铜面粗化微蚀刻剂，其特征在于：所述微蚀刻剂包含如下质量百分含量的各组分：
氯化铜 7％
氯化钠 6％
衣康酸 5％
甲酸钠 5％
乌洛托品 0.02％
去离子水 余量。
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