[发明专利]真空循环脱气炉真空室冷却水漏水处理方法

权利要求书

1.一种真空循环脱气炉真空室冷却水漏水处理方法，其特征在于，根据漏水程度不同分别采取相应的处理方法：

少量漏水的处理方法：

少量漏水，即通过真空室内摄像镜头观察真空室内漏水不成流，只有小水滴滴落；摄像镜头无水汽凝结；真空压力回升量低于2kPa；其处理步骤为：

（1）、立即停止吹氧，将顶枪升至待机位置，即真空室最高位置；

（2）、将插入管提升气体吹气强度降至0.16-0.28Nm³/h·t；

（3）、关闭真空系统与真空室系统之间的真空阀门，利用通入正常管道空气或氮气进行系统破真空，恢复真空系统和真空室系统的压力大气压，禁止使用氮气罐的气体进行通风破真空；

（4）、当真空室内压力达到90 kPa以上后，将顶枪抬到真空室外，真空室摄像镜头拆卸至真空室外，关闭顶枪或真空室摄像镜头冷却水入水阀门；

大量漏水的处理方法：

大量漏水，即通过真空室内摄像镜头观察真空室内漏水成流或真空室内摄像镜头迅速被水汽凝结；真空压力回升量2kPa以上；其处理步骤为：

（1）、立即停止吹氧，将顶枪升至待机位置，即真空室最高位置；

（2）、将插入管提升气体彻底关闭；

（3）、关闭顶枪或真空室摄像镜头冷却水入水阀门；

（4）、采取深真空操作，将真空压力降至1 kPa以下，利用真空泵将真空室内的水蒸气充分排除；

（5）、当顶枪或真空室摄像镜头已经不继续漏水并且真空室内真空压力达到正常真空压力水平时，利用通入正常管道空气或氮气进行系统破真空，禁止使用氮气罐的气体进行通风破真空；

（6）、当真空室内压力达到90kPa以上后，将顶枪抬到真空室外，真空室摄像镜头拆卸至真空室外。

2.根据权利要求1所述的真空循环脱气炉真空室冷却水漏水处理方法，其特征在于，所述顶枪待机位置为顶枪枪位距离真空室底部砖的高度在4-10m。