[发明专利]一种聚焦定位治疗装置及其系统

说明书

技术领域

本发明涉及一种病灶定位装置，尤其涉及一种聚焦定位治疗装置及其系统。

背景技术

病灶定位装置属于医疗器械，在现实中使用的频率是非常高的，用于定位人体内部的病灶位置，便于做进一步的治疗，目前的病灶定位装置在使用过程中主要是通过对各个构件进行调节，从而实现对超声波等入射能量进行聚焦及定位，进而实现调节病灶的定位，但这种通过各个构件的调节方式，定位和聚焦并不够精确，因此这种现有的定位装置所需要的超声波单位面积入射能量大、定位精确度低，影响了对病灶定位的精确性，除此之外，所述构件对病灶的聚焦治疗过程中，难免会出现被骨骼阻挡的情况，因此，可能存在对病灶聚焦治疗的死角问题，没法全面实现对病灶的聚焦治疗。

发明内容

为了克服现有技术的不足，本发明需要提供一种单位面积入射波源能量小、定位精确度高的聚焦定位治疗装置，在此基础上，所述聚焦定位治疗装置还能够消除对病灶聚焦治疗过程中的死角，全面实现对病灶定位基础上的聚焦治疗。

对此，本发明提供一种聚焦定位治疗装置，包括： 

第一波源组件，其上表面为凹球面构件，所述凹球面构件的球心为聚焦焦点；

第二波源组件，包括至少2个安装在所述凹球面构件上的、分别独立工作的波源晶片，所述波源晶片与所述凹球面构件共球心；以及，

定位组件，安装于所述第一波源组件的中心位置，其轴线经过所述聚焦焦点，所述定位组件能够相对于其轴线进行旋转和上下运动。

其中，所述第一波源组件的上表面为凹球面构件，所述凹球面构件为凹形的球面构件，所述凹球面构件的球心为聚焦焦点；所述聚焦焦点与定位组件定位病灶的位置重合，用于实现对病灶定位基础上的聚焦治疗；所述定位组件能够相对于其轴线进行旋转和上下运动，用于调节对病灶定位的位置；所述第二波源组件包括至少2个安装在所述凹球面构件上的波源晶片，即所述第二波源组件为波源晶片组，所述波源晶片为产生入射波的晶片，可以包括产生超声波入射的晶片以及产生其他入射能量晶片。

本发明所述定位采用定位组件的探测找到病灶所在位置，利用使用该聚焦定位治疗装置的治疗机或治疗床将病灶移到能量聚焦的位置，也就是聚焦焦点；聚焦是指通过各个构件的物理形状、位置和结构去实现波源晶片发射出来的波源能量聚集到一个点上面；对病灶的定位完成之后，便可以开始聚焦治疗；在治疗的过程中，定位组件可以保持工作，以实时监测病灶情况；在治疗的过程中，可以单独调节每个波源晶片的工作状态，避免聚焦过程中因为骨骼的阻挡而出现的死角，以达到更好的医疗效果，同时，关闭被阻挡的波源晶片，以减小对人体的损伤，节省能量。

本发明所述波源晶片分别独立工作，所述波源晶片分别独立工作指的是波源晶片能够选择单个波源晶片工作和多个波源晶片同时工作等方式，每一个波源晶片的工作都是独立的，可以根据实际需要来选择启动其中一个或多个波源晶片；所述波源晶片与所述凹球面构件共球心，安装在所述凹球面构件上的波源晶片围成一个球面，该球面的球心与所述凹球面构件的球心重合，即为聚焦焦点，采用所述波源晶片与所述凹球面构件共球心，在定位的过程中，所述定位组件扫描找到病灶后，将病灶位置移动至聚焦焦点上，直到病灶位置已经移至聚焦焦点上，则针对该病灶进行聚焦治疗；如此，便能够在准确定位的基础上，有效提高对病灶聚焦治疗的精准性；所述定位组件安装于所述聚焦定位治疗装置的轴向中心上，其轴线通过聚焦焦点，且所述定位组件自身可绕其轴线旋转，也可以沿其轴线上下运动；所述波源能量为波源晶片发射的能量。

现有技术中，主要是利用单点发射波源能量实现对病灶的聚焦定位，这样的方式聚焦定位不够精确，因此存在需要的单位面积入射波源能量大、定位精确度低等问题，影响对病灶定位的精确性，甚至还会对人体也会造成一定的伤害，除此之外，由于波源在入射的某个方向可能会受到骨骼等易吸收波源能量的物体的阻碍，倘若出现了骨骼阻挡等情况，在对病灶聚焦定位治疗的过程中就会出现无法聚焦的死角，即如果病灶在骨骼背面的话，现有的病灶定位装置很有可能由于阻挡而聚焦不到，并且会对人体进行一定的损伤。