[发明专利]一种聚焦定位治疗装置及其系统

权利要求书

1.一种聚焦定位治疗装置，其特征在于，包括：

第一波源组件（102），其上表面为凹球面构件，所述凹球面构件的球心为聚焦焦点（101）；

第二波源组件（103），包括至少2个安装在所述凹球面构件上的、分别独立工作的波源晶片，所述波源晶片与所述凹球面构件共球心；以及，

定位组件（104），安装于所述第一波源组件（102）的中心位置，其轴线经过所述聚焦焦点（101），所述定位组件（104）能够相对于其轴线进行旋转和上下运动。

2.根据权利要求1所述的聚焦定位治疗装置，其特征在于，所述第二波源组件（103）的波源晶片采用超声晶片，所述超声晶片的波源发射面以聚焦焦点（101）为球心。

3.根据权利要求1所述的聚焦定位治疗装置，其特征在于，所述定位组件（104）采用B超探头，所述B超探头采用旋转进行断层扫描。

4.根据权利要求1、2或3所述的聚焦定位治疗装置，其特征在于，所述第二波源组件（103）包括3个独立工作的波源晶片，所述波源晶片等距离安装于所述凹球面构件上。

5.根据权利要求1、2或3所述的聚焦定位治疗装置，其特征在于，所述第二波源组件（103）包括8个独立工作的波源晶片，所述波源晶片等距离安装于所述凹球面构件上。

6.一种聚焦定位治疗系统，其特征在于，包括：如权利要求1所述的聚焦定位治疗装置和晶片控制装置，所述晶片控制装置与所述第二波源组件（103）相连，用于分别启动与之一一对应的波源晶片。

7.根据权利要求6所述的聚焦定位治疗系统，其特征在于，所述波源晶片采用超声晶片。

8.根据权利要求7所述的聚焦定位治疗系统，其特征在于，还包括主机，所述聚焦定位治疗装置安装于所述主机上。