[发明专利]吊起干燥装置、使用其的磁记录介质用基板或磁记录介质的制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及在一边将具有中心孔的圆盘状的基板浸渍在清洗槽内的清洗液中一边进行基板的清洗之后、将该基板吊起并干燥的吊起干燥装置以及使用该吊起干燥装置的磁记录介质用基板或磁记录介质的制造方法。

本申请要求基于2010年8月18日提出申请的日本专利申请第2010-183211号的优先权，在此援引其内容。

背景技术

例如，在搭载于信息设备等的硬盘驱动器等中，使用具有中心孔的圆盘状的磁记录介质用基板。这样的磁记录介质用基板，通过使用由铝合金和/或玻璃等形成的基板，经由切削工序或磨削工序、研磨工序、溅射工序(sputtering process)、镀敷工序等的各种处理工序来制造，另外，在进行了这些处理工序之后，进行清洗基板表面并使其干燥的工序。

然而，近年，出于对记录介质的大容量化和信息设备等的小型化的要求，磁记录介质的记录密度变得越来越高。另外，对于这样的磁记录介质用基板和/或使用其的磁记录介质来说，要求能够应对在其记录面上悬浮运行的磁头的低悬浮化的高平坦度。

因此，对于磁记录介质用基板和磁记录介质而言，要求下述高级别的清洗方法和干燥方法，所述高级别的清洗方法，在施加了研磨加工、溅射成膜等的各种各样的表面处理之后，能够将附着在基板表面的尘埃等去除，所述干燥方法用于清洁地干燥已清洗的基板。

以往，作为基板的清洗和干燥方法，在大直径的基板的情况下，将许多块基板收置在被称为载体的容器中，一边在清洗液中运送，一边通过多个清洗刷进行刷洗(scrub)清洗之后，使基板旋转以使其进行旋转式干燥。

另外，提出了如下清洗装置：以磁盘基板等作为工件，在其表面进行研磨加工等的表面处理之后，为了去除附着在工件的表面的异物等，使用多个清洗槽，一边通过运送设备(conveyor)运送工件一边使用液体进行清洗(参照专利文献1。)。

另外，提出如下晶片(wafer)干燥装置：以半导体基板作为晶片，将收置有多块晶片的盒子收置于吊架(cradle)，为了防止水滴和/或尘埃滞留在晶片上，一边用具有V字槽的部件保持晶片使其平行地分开，一边使吊架旋转(参照专利文献2。)。

另外，提出了如下技术方案：在将附着在中央具有开口部的圆盘状磁盘(盘、disk)的清洗液通过使该磁盘旋转来去除的旋转式干燥装置中，将夹卡外周部的卡盘部件和被夹卡的磁盘接触的接触部的一部分设为卡盘部件和磁盘不接触的非接触部，有效地去除滞留在卡盘部件的清洗液(参照专利文献3。)。

另外，提出了如下技术方案：在将附着在中央具有开口部的圆盘状磁盘(盘、disk)的清洗液通过使该磁盘旋转来去除的旋转式干燥装置中，通过夹卡内周部的卡盘部件以磁盘立起的状态卡夹磁盘，设置朝向卡盘部件和磁盘的抵接部的旋转方向上的后方侧供给空气的供给部，有效地去除滞留在卡盘部件的清洗液(参照专利文献4。)。

另外，作为晶片状的基板的干燥方法，已知有吊起干燥法(参照专利文献5。)。所谓吊起干燥法是如下的方法：将清洗后的晶片保持在夹卡装置并浸渍在纯水中，其后，一边使夹卡装置上升使晶片的上方部从纯水中悬浮，一边去除悬浮的部分的纯水，其后，将晶片整个表面从纯水中吊起从而使晶片干燥的方法。

专利文献1：日本特开2001-96245号公报

专利文献2：日本特开平8-45894号公报

专利文献3：日本特开2003-257017号公报

专利文献4：日本专利第2782838号公报

专利文献5：日本特开平10-189529号公报

发明内容

上述的吊起干燥法，装置的构造简单，能够同时处理许多的基板，因此，作为晶片状的基板的干燥方法被广为使用。但是，吊起干燥法，在磁记录介质用基板和/或磁记录介质的干燥中用得并不多。即，在使用该吊起干燥法的情况下，例如像图3A～3C示意地所示那样，在基板D从纯水W离开的瞬间由于表面张力而隆起的纯水W飞溅，该飞溅起的液滴P再度附着在基板D。另外，污垢凝聚于再度附着在基板D的液滴P的情况多，该污垢在基板D上形成干燥污点。而且，形成该干燥污点的部位为磁记录介质的记录面，因此，这成为磁记录介质的不良扇区(sector)。

本发明是鉴于这样的以往的情况而提出的，其目的是提供：在一边将具有中心孔的圆盘状的基板浸渍在清洗槽内的清洗液中一边进行基板的清洗之后，在将该基板吊起并干燥时防止产生干燥污点的吊起干燥装置以及使用其的磁记录介质用基板或磁记录介质的制造方法。