[发明专利]吊起干燥装置、使用其的磁记录介质用基板或磁记录介质的制造方法有效
| 申请号： | 201110235514.1 | 申请日： | 2011-08-16 |
| 公开（公告）号： | CN102376315A | 公开（公告）日： | 2012-03-14 |
| 发明（设计）人： | 坂口龙二;田中良;大岛德夫 | 申请（专利权）人： | 昭和电工株式会社 |
| 主分类号： | G11B5/84 | 分类号： | G11B5/84;G11B5/667;F26B21/00 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 段承恩;陈海红 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 吊起 干燥 装置 使用 记录 介质 用基板 制造 方法 | ||
1.一种吊起干燥装置，为在一边将具有中心孔的圆盘状的基板浸渍在清洗槽内的清洗液中一边进行基板的清洗之后吊起并干燥该基板的吊起干燥装置，其特征在于，具备：
悬吊机构，其插通于所述基板的中心孔，以悬吊状态支撑多个基板；
升降机构，其在将基板浸渍于所述清洗槽内的清洗液的位置和将基板取出到所述清洗槽上的位置之间对所述悬吊机构进行升降操作；和
喷出机构，其配置在所述清洗槽内，从所述悬吊机构的下方向基板喷出所述清洗液。
2.根据权利要求1所述的吊起干燥装置，其特征在于，具备对从所述清洗液的液面吊起了的基板从上方喷射干燥气氛气体的喷射机构。
3.根据权利要求1所述的吊起干燥装置，其特征在于，所述基板的吊起速度为0.01～30mm/秒。
4.根据权利要求1所述的吊起干燥装置，其特征在于，从所述喷出机构喷出的清洗液的流速为0.1～100cm/秒。
5.根据权利要求2所述的吊起干燥装置，其特征在于，从所述喷射机构喷出的干燥气氛气体的流速为0.1～50cm/秒。
6.根据权利要求1所述的吊起干燥装置，其特征在于，所述清洗液含有含氢水。
7.根据权利要求1所述的吊起干燥装置，其特征在于，所述基板为磁记录介质用基板或磁记录介质。
8.一种磁记录介质用基板的制造方法，包括使用权利要求1所述的吊起干燥装置清洗磁记录介质用基板的工序。
9.一种磁记录介质的制造方法，包括使用权利要求1所述的吊起干燥装置清洗磁记录介质的工序。
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