[发明专利]使用羟磷灰石层析除去高分子量聚集体

权利要求书

1.一种从含有高分子量聚集体的抗体制剂纯化至少一种抗体的方法，其包括：

使羟磷灰石树脂接触溶于包含1至20mM磷酸钠和0.2至2.5MNaCl的加样缓冲液中的抗体制剂并允许纯化的抗体流过所述树脂。

2.权利要求1的方法，其中所述纯化的抗体含有小于5％的高分子量聚集体。

3.权利要求1的方法，其中所述纯化的抗体含有小于1％的高分子量聚集体。

4.权利要求1的方法，其中所述加样缓冲液具有6.4至7.6的pH。

5.权利要求4的方法，其中所述加样缓冲液含有3mM或5mM磷酸钠。

6.权利要求4的方法，其中所述加样缓冲液含有1M或0.35MNaCl。

7.权利要求4的方法，其中所加样缓冲液具有6.8或7.2的pH。

8.权利要求1的方法，其中所述抗体是IgG、IgA、IgD、IgE或IgM抗体。

9.权利要求1的方法，其中所述抗体是单克隆的、多克隆的、嵌合的、人源化的或其片段。

10.权利要求1的方法，其中所述抗体是抗I L-21受体、抗GDF-8、抗Abeta、抗CD22、抗Lewis Y、抗IL-13或抗IL-22抗体。

11.权利要求1的方法，其中所述抗体具有碱性pI。

12.权利要求1的方法，其中所述树脂是I型或II型陶瓷羟磷灰石。

13.权利要求12的方法，其中所述树脂是I型陶瓷羟磷灰石。

14.权利要求1的方法，其中所述纯化的抗体含有小于300ppm A蛋白。

15.一种从含有高分子量聚集体的抗体制剂纯化至少一种抗体的方法，其包括：使抗体制剂经受(a)A蛋白亲和层析、(b)离子交换层析和(c)羟磷灰石层析，

其中所述方法包括使所述羟磷灰石树脂接触溶于包含1至20mM磷酸钠和0.2至2.5M NaCl的加样缓冲液中的抗体制剂并允许纯化的抗体流过所述树脂。

16.权利要求15的方法，其中首先进行A蛋白亲和层析，和最后进行羟磷灰石层析。

17.权利要求15的方法，其中所述纯化的抗体含有小于5％的高分子量聚集体。

18.权利要求15的方法，其中所述纯化的抗体含有小于1％的高分子量聚集体。

19.权利要求15的方法，其中所述加样缓冲液具有6.4至7.6的pH。

20.权利要求19的方法，其中所述加样缓冲液含有3mM或5mM磷酸钠。

21.权利要求19的方法，其中所述加样缓冲液含有1M或0.35MNaCl。

22.权利要求19的方法，其中所述加样缓冲液具有6.8或7.2的pH。

23.权利要求15的方法，其中所述抗体是IgG、IgA、IgD、IgE或IgM抗体。

24.权利要求15的方法，其中所述抗体是单克隆的、多克隆的、嵌合的、人源化的或其片段。

25.权利要求15的方法，其中所述抗体是抗I L-21受体、抗GDF-8、抗Abeta、抗CD22、抗Lewis Y、抗IL-13或抗IL-22抗体。

26.权利要求15的方法，其中所述抗体具有碱性pI。

27.权利要求15的方法，其中所述树脂是I型或II型陶瓷羟磷灰石。

28.权利要求27的方法，其中所述树脂是I型陶瓷羟磷灰石。

29.权利要求15的方法，其中所述离子交换层析是阴离子交换层析。

30.权利要求15的方法，其中所述纯化的抗体含有小于300ppmA蛋白。