[发明专利]双折射图案的制作材料

说明书

技术领域

本发明涉及双折射图案的制作材料(birefringence pattern builder)。更具体地，本发明涉及双折射图案的制作材料，其防止在制备过程可产生功能层的不均匀性，并且能够制备更薄的产品，本发明还涉及使用所述双折射图案的制作材料制备图案化的双折射产品的方法。

背景技术

图案化的双折射产品具有在非偏振光源下不可见的潜像，但是通过使用偏振滤光器变得可见。制备图案化的双折射产品的方法的一些实例在日本未审查的专利公布(KOKAI)2009-69793、2009-223190和2009-175208中有述，并且在这些文献中提出所述产品用于防伪的应用。

图案化的双折射产品包含用于呈现双折射图案的光学各向异性层。它通常还具有用于支撑所述光学各向异性层的层。但是，在制备方法中，将片状图案化的双折射产品辊卷的步骤中，所述支撑体(常位于最外表面)可使所述图案化的双折射产品中的其它功能层产生不均匀性。

此外，当为了制作更薄的图案化的双折射产品而降低所述支撑体的厚度时，在制作过程中的处理可能受损。

发明内容

本发明的目的是提供即使在工业生产方法的辊卷步骤后仍然几乎不在图案化的双折射产品中导致不均匀性的制备方法，以及制备能够生产更薄产品的图案化的双折射产品的方法。具体地，本发明的目的是提供用于所述制备方法的双折射图案的制作材料。

本发明人进行认真研究并发现以上目的可通过将层合膜涂布于支撑体实现。基于以上发现，本发明人已完成本发明。

本发明由此提供以下[1]至[12]。

[1]在制备图案化的双折射产品的方法中使用的双折射图案的制作材料，所述制备方法包括使光学各向异性层图案化曝光的步骤，以及在曝光后将所述层加热至50℃或更高但不高于400℃的步骤，所述双折射图案的制作材料依次包含所述光学各向异性层、支撑体和层合膜。

[2]如[1]所述的双折射图案的制作材料，其中所述层合膜至少包含层合基材和粘合层。

[3]如[2]所述的双折射图案的制作材料，其中所述粘合层的平均膜厚度是1.0微米或更大。

[4]如[1]-[3]中的任一项所述的双折射图案的制作材料，其中所述层合膜的与粘附所述支撑体的表面相对的表面的“粗糙度曲线的最大剖面高度Rt”是1.0微米或更高。

[5]如[1]至[4]中的任一项所述的双折射图案的制作材料，其包含在所述支撑体与所述光学各向异性层之间的反射层。

[6]如[1]至[5]中的任一项所述的双折射图案的制作材料，其中所述光学各向异性层包含未反应的反应性基团。

[7]如[1]至[6]中的任一项所述的双折射图案的制作材料，其中所述图案化的光学各向异性层是由包含含有至少一个反应性基团的液晶化合物的组合物形成的层。

[8]如[7]所述的双折射图案的制作材料，其中所述液晶化合物含有两种或更多种各自具有不同聚合条件的反应性基团。

[9]如[8]所述的双折射图案的制作材料，其中所述液晶化合物含有自由基型反应性基团和阳离子型反应性基团。

[10]如[9]所述的双折射图案的制作材料，其中所述自由基型反应性基团是丙烯酸基团和/或甲基丙烯酸基团，并且所述阳离子型反应性基团是乙烯基醚基团、氧杂环丁烷基基团和/或环氧基基团。

[11]制备图案化的双折射产品的方法，其中使用如[1]-[10]中的任一项所述的双折射图案的制作材料。

[12]制备图案化的双折射产品的方法，其包括以下步骤(1)-(4)：

(1)在其上粘附有层合膜的支撑体的表面上形成光学各向异性层，所述表面与粘附所述层合膜的表面相对；

(2)对所述光学各向异性层进行图案化曝光；

(3)将经所述图案化曝光后的所述层加热至50℃或更高但不高于400℃；和

(4)剥离所述层合膜。

本发明的效果

本发明提供双折射图案的制作材料，其防止在制作过程中可产生的功能层的不均匀性。所述支撑体不需加厚以保持在制作过程中所需的动力稳定性。因此，可制作更薄的产品作为图案化的双折射产品。

附图说明

图1：表示在支撑体上各自具有图案化的光学各向异性层的图案化的双折射产品(透射型和反射型)的典型结构的图解。

图2：表示各自具有取向层的图案化的双折射产品的典型结构的图解。