[发明专利]双折射图案的制作材料

权利要求书

1.双折射图案的制作材料，其用于制作图案化的双折射产品的方法中，所述方法包括光学各向异性层的图案化曝光的步骤，以及在所述曝光后将所述层加热至50℃或更高但不高于400℃的步骤，所述双折射图案的制作材料依次包含所述光学各向异性层、支撑体和层合膜。

2.如权利要求1所述的双折射图案的制作材料，其中所述层合膜至少包含层合基材和粘合层。

3.如权利要求2所述的双折射图案的制作材料，其中所述粘合层的平均膜厚度是1.0微米或更高。

4.如权利要求1-3中的任一项所述的双折射图案的制作材料，其中所述层合膜的与粘附到所述支撑体的表面相对的表面的“粗糙度曲线的最大剖面高度Rt”是1.0微米或更高。

5.如权利要求1-4中的任一项所述的双折射图案的制作材料，其包含在所述支撑体和所述光学各向异性层之间的反射层。

6.如权利要求1-5中的任一项所述的双折射图案的制作材料，其中所述光学各向异性层包含未反应的反应性基团。

7.如权利要求1-6中的任一项所述的双折射图案的制作材料，其中所述图案化的光学各向异性层是由包含含有至少一个反应性基团的液晶化合物的组合物形成的层。

8.如权利要求7所述的双折射图案的制作材料，其中所述液晶化合物具有聚合条件不同的两种或更多种反应性基团。

9.如权利要求8所述的双折射图案的制作材料，其中所述液晶化合物含有自由基型反应性基团和阳离子型反应性基团。

10.如权利要求9所述的双折射图案的制作材料，其中所述自由基型反应性基团是丙烯酸基团和/或甲基丙烯酸基团，并且所述阳离子型反应性基团是乙烯基醚基团、氧杂环丁烷基基团和/或环氧基基团。

11.制作图案化的双折射产品的方法，其中使用如权利要求1-10中的任一项所述的双折射图案的制作材料。

12.制作图案化的双折射产品的方法，其包括以下步骤(1)-(4)：

(1)在其上粘附有层合膜的支撑体的表面上形成光学各向异性层，所述表面与粘附所述层合膜的表面相对；

(2)对所述光学各向异性层进行图案化曝光；

(3)在所述图案化曝光后将所述层加热至50℃或更高但不高于400℃；和

(4)剥离所述层合膜。